中古 ASML PAS 5500 / 100D #9212923 を販売中

ASML PAS 5500/ 100Dは、半導体製造のために設計された深紫外線リソグラフィーステッパーです。ステッパーは、高度なノードエレクトロニクスにおいて、70ナノメートル（nm）という小さな機能を生成することができます。この装置は幅広いカスタマイズオプションを備えており、1時間に最大5つのウェーハを処理できます。ステッパーはXYZステージプラットフォーム上に構築され、ウェーハに一連のパターンを投影するために長いアークランプ源を使用します。このプラットフォームは、セグメント化されたウェーハトラックを使用して生産性を向上させ、複数の独立したウェーハを同時に使用できます。コンピュータ制御の光学アセンブリは、互いに整列して「マスター」の複合パターンに変換される複数の画像を投影します。ステッパーは最先端のステージキャリブレーションシステムと保証レベル2（拡張）認定ウェハを使用しています。リアルタイムウェーハ位置監視（RPM）機能により、スキャナーソフトウェアとハードウェアコンポーネントの両方を使用して、プロジェクトの処理のアライメントと精度を維持できます。ステッパーには、Eclipse OSという統合されたオペレーティングユニットも搭載しており、最適なパフォーマンスとユーザーコントロールを実現しています。マシンは、特定のアプリケーションに合わせて調整することができ、機能と柔軟性の広い範囲を持っています。これには、線量管理、イメージベースの計測、プロセス最適化、自動化されたウェーハ処理のためのソフトウェアが含まれます。また、ローカルおよびリモートのデータ監視、分析、追跡のためにプログラムすることもできます。ASML PAS 5500/100Dは、高度なプロセスリソグラフィの要求を満たすように設計されています。コンパクトなサイズ、優れた性能、カスタマイズ可能なオプションにより、多くのチップ生産および高度な半導体プロセスに最適です。精度、安定性、手頃な価格を兼ね備えており、多くのファウンドリおよびチップデザイナーアプリケーションに最適なツールです。