中古 ASML PAS 5500 / 100C #9228851 を販売中
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ID: 9228851
Stepper
Uniformity: %
22x22 mm: </= 1.6
14.7*27.4mm: </= 1.6
Intensity: >/= 850 mW/cm^2
Lamp Life: 1500W: </= 150 hrs
Dose repeatability & accuracy: </= 1
Reticle masking black border size: </= 475
Image performance:
Astigmatism: </= 0.35
Focal plane deviation: </= 0.45
UDOF @ 0.40 um lines: >/= 1um
Focus / Leveling:
Focus repeatability focus: </= 50nm
Rx: </= 3 urad
Ry: </= 3 urad
FOCAL: Valid positions ≧ 14
Best focus < ± 0.2 um
Image tilt Rx < ± 5 urad
Image tilt Ry < ± 5 urad
Image distortion (lens):
Max X (NCE): </= 60nm
Max Y (NCE): </= 60nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Symmetrical T: </= 10 nm/cm2
Trapezoidal: </= 10 nm/cm2
Overlay performance:
Stage repeatability
Max x: </= 15nm
Max y: </= 15nm
Single machine: </= 60nm
2-NA Global overlay:
NA=0.48
NA=0.57
Prealigner accuracy:
Edge sensor
X (3sig): </= 8.5um
Y (3sig): </= 8.5um
Rotation (3sig): </= 180 urad
Edge sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Mark sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Image quality control (3sig):
Focus: </= 50 nm
Image Rx: </= 2 urad
Image Ry: </= 2 urad
Translation: </= 20 nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Throughput
(70) Shots at 200 mJ, 8": >/= (70) Wafers / Hour
Reticle exchange time: </= 29 Seconds
System reliability: > 500 PCs
Particle: 0.2um < 10ea
Laser output:
Alignment laser: > 12 mw
Interferometer HP laser: > 220 μw
Missing parts:
MVR Rack power supply
Lens bag inactivity
Workstation hard disk
(2) ACU Air pipes
Wafer handler elevator: 3/4 Cover.
ASML PAS 5500/100Cは、主にさまざまな基板にマスクを投影するために使用されるウェハステッパーです。半導体製造、太陽光、フラットパネルディスプレイなどの業界で広く使用されています。ノイズやその他の悪影響を最小限に抑えながら、スループットを最大化するように設計されたさまざまな機能を備えています。例えば、装置は0。9秒未満の位置変更の時間を提供し、仕事のための速いターンアラウンドタイムを保障します。このシステムには、周囲の大気のインテリジェントな監視をサポートする環境センサーも含まれており、温度、静的および湿度の応答と制御を可能にします。このユニットは、ArFレーザー源、深紫外線光源など、さまざまな光源と互換性があり、あらゆるサイズと複雑さのジョブを確実に完了できます。また、OPC処理やステッチ印刷などのタスクに必要な特殊な機能も含まれています。モジュラー設計により、ユーザーは必要に応じて機器を自由に交換して構成することができ、最大の効率を確保できます。機械は高度なロボティクスで設計されており、垂直と水平の両方で振動を最小限に抑え、正確なパターンと高品質の画像を保証します。その非常に効率的な冷却ツールは、粒子熱が均一な表面品質のために処理中にチャンバー全体に均等に分布することを保証します。さらに、高度なレーザー散乱計アセットは、高い精度を提供するように設計されており、画像がサブミクロンレベルに一貫して整列されていることを保証します。ASML PAS5500/100Cは、最大2kHzの周波数で動作する超高速モーションコントロールを備えています。レスポンシブな設計により、迅速な応答時間を確保し、オペレータからの制御コマンドに反応して即座に調整します。このモデルには、プロファイルの包括的なライブラリと、イメージングプロセスを完全に制御するためのさまざまな機能も含まれています。さらに、パワーダウンシャットダウン安全、持ち上げられた物体検出、ステージ衝突検出など、多くの安全機能を備えています。このウェーハステッパーは、さまざまな用途に適したさまざまな機能を誇り、最大限の汎用性を目指して設計されています。その幅広い機能により、信頼性と効率性が高く、シリコンデバイスメーカーの間で人気が高まっています。
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