中古 ASML PAS 5000 / 55 #9068441 を販売中

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ID: 9068441
i-Line Stepper Software version: 3.1.0 Reticle size: 5" Lens Data: Wave length: 365nm (i-line) NA: 0.48 Resolution: 0.50µm Field Size Diameter: 21.2mm Max X: 15mm Max Y: 19mm Usable Depth of focus: ≥1.2µm at specified resolution of 0.50µm with 10% CD Control and > 83° wall angle Distortion: 100nm Currently stored in a cleanroom.
ASML PAS 5000/55ウェハステッパーは、半導体デバイスの製造に使用される高度なリソグラフィ装置です。半導体ウェーハ上のパターンをサブピクセル精度で生成できる精密イメージング装置です。CCDカメラと走査型電子顕微鏡で撮影した複数の画像のアライメントを組み合わせた独自のシンクロスコープアライメントシステムを搭載し、複数の画像を正確にオーバーレイすることができます。PAS 5000/55は、高NA(数値開口)投影ユニットを採用しており、小型のフィーチャーサイズでパターンを生成することができます。さらに、このツールは露光プロセスを管理および最適化するための自動アセットを備えており、設計から製造までの正確なイメージングを保証します。このモデルは露出を重ね合わせることも可能で、生産時間の短縮と半導体デバイスの生産効率の向上を可能にします。ASML PAS 5000/55には、ウェーハアライメントや画像選択などの高度なリソグラフィ機能も搭載されています。このマシンは、暗いフィールド照明または明るいフィールド照明のいずれかを使用するように構成することができ、レンズと絞りマスクのフルレンジが装備されています。装置は、ウェーハのアライメントを実行するようにプログラムすることができ、レーザーオートフォーカスシステムが含まれており、正確かつ正確な画像処理を保証します。2インチから300mmまでの複数のウエハサイズに対応可能で、片面加工と両面加工の両方に使用できます。また、検査および計測機能を備えたモニタリングマシンと、基板とマスクの整列を確実にする自動マーケットツールも内蔵しています。パッケージにはインライン検査アセットも含まれており、迅速なウエハ補正とパターン認識が可能です。PAS 5000/55ウェーハステッパーは、半導体製造のための堅牢で信頼性の高い高度なリソグラフィーモデルです。さまざまなデバイスのサイズに精度と再現性の高いリソグラフィ結果を提供し、高い生産性と歩留まり向上を実現するよう設計されています。試作から量産まで、小規模・大規模生産に適しています。
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