中古 ASML PAS 5000 / 50 #9046375 を販売中

ASML PAS 5000/50は、大量生産のニーズを満たすように設計された最先端のウェーハステッパーです。このデバイスは、半導体ウェーハ上のマイクロ回路の重要な層をパターン化することができ、現代のデジタル技術の製造に最適です。ASML PAS 5000/50は、高解像度レンズ、高度なイメージングシステム、高度なソフトウェアアルゴリズムを使用してウェーハを正確にパターン化する最適化されたリソグラフィーソリューションです。この装置は、単一の露出と複数の露出操作の両方をさまざまな解像度でサポートするのに十分な柔軟性があります。これは、高いスループット生産能力と最小限のマシンのダウンタイムによって補完されます。PAS 5000/50は、光学設計において、NA=0。22の数値開口部を持つ先進的なデュアルフィールドレンズと、高解像度イメージングを可能にするミラーベースの投影アライメントシステムを採用しています。このユニットには、完全に統合されたフォーカスと露出制御マシン、および高度な空中イメージングツールとカメラキャリブレーションスイートが備わっています。PAS 5000/50はモーションアームとウェーハチャックを備えており、ウェーハを所望の向きに配置するだけでなく、集積回路のさまざまな領域の正確なターゲティングと露出を可能にします。自動クランピングアセットは回転速度変動に対応し、ウェーハの信頼性の高いパターニングを可能にします。ASML PAS 5000/50は、一連の自動プロセス監視および管理システムでも設計されています。これには、高度なウェーハ欠陥検査モデルと、潜在的な問題の迅速な検出と診断を可能にする包括的なプロセス分析パッケージが含まれます。最後に、ASML PAS 5000/50は、製造プロセスで最高品質の基準が達成されるようにプログラムされた自動生産レシピを実行することができます。これにより、欠陥率が最小限に抑えられ、生産の納期が短縮されます。要するに、PAS 5000/50は、最新の生産要件のニーズを満たすように設計された高度なウェーハステッパーです。このデバイスは、カスタマイズされた光学設計、統合された露出とフォーカス制御、自動化されたレシピ、プロセス監視、および管理システムにより、大量のウェーハ製造に最適です。