中古 ASML PAS 2500 / 40 #9285750 を販売中
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販売された
ID: 9285750
ウェーハサイズ: 3"
Wafer stepper, 3"
Resolution, 0.7 µm
Reticle handling PCB
Stamp up / Down
Focus laser drive
Diode control
P-Chuck pre amplifier
Blades control
Blades DR
Motor relay
Relay card
Voltage current
Interference filter
Focus servo
Reticle table table control
Timing control card
Hinds modulator
Alignment counter
Alignment Mux + Dem
Velocity card
Bar code reader
Commutator
Charge amplifier
Wafer handling
Cyber termination
Floppy termination
2500x Table control
PAS 2500T Table control
Mains switch relay card
Pin spot sensor
Wafer quality and ambient
Signal conditioning board RMS
WH Pre amplifier HTW
HV Cable with ferrite Ring
Cables / Sensors
CYBEC Transmitter, 4"
CYBEC Receiver, 4"
Hard Disk Drive (HDD)
(3) P Chuck motors
Motor realignment unit (X/Theta Reticle handling)
Boards missing.
ASML PAS 2500/40は、コンピュータチップやその他の電子部品の製造に使用されるウェーハの製造に広く使用されている193ナノメートルバイナリステップアンドスキャンフォトリソグラフィ機です。ASML PAS 2500/40は、最大8 「x 10」のダイサイズで100mmから200mmのサイズのウェーハ上でパターンを作成することができます。PAS 2500/40は可動式光学装置を使用しており、可変光学系を可能にする六重レンズのペアを備えています。レンズは高解像度の画像処理と一定の光学性能を提供し、高速生産に適しています。Liquid Developersを使用すると、マシンは非常に低エネルギー露出の露出線量の範囲の直接書き込み露出を行うことができます。PAS 2500/40は、X線源、レーザー源、ステッパー制御ウェハチャックの組み合わせを利用しています。X線源はウェーハを照らすために使用され、レーザー源はウェーハに露出線量を指示するために使用されます。ステッパー制御のウェハチャックにより、露出中にウェハを移動させることができ、露出プロセスの個々のステップを正確に実行できます。ASML PAS 2500/40には、AutoFocusやAutoalignなどの高度な技術が搭載されており、非常に高精度で均一な自動撮影と露出が可能です。このツールはまた、スキャンフォーカルプレーンスリッティングアセットを備えており、ウェーハ露出ステップの範囲を同時に実行することができます。さらに、ASML PAS 2500/40はソフトウェア制御のスキャンプロセスを備えており、特定のレイヤーの露出数を最小限に抑えます。このマシンはまた、最適なプロセス制御と最適化を可能にする計測ツールの広い範囲を備えています。PAS 2500/40は非常に信頼性が高く汎用性の高いウェーハステッパーであり、最も要求の厳しいフォトリソグラフィおよびテストアプリケーションで高精度、再現性、および堅牢性を提供できます。
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