中古 ASML PAS 2500 / 40 #9277550 を販売中

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ID: 9277550
ウェーハサイズ: 6"
Wafer stepper, 6" Reticle masking: (4) Independent blades Full field of travel Alignment system: Dual automatic through-the-lens Diffraction grating marks Reticle alignment system Illumination system: Elliptical mirror Fly's eye integrator Position control: Three-axis HP laser interferometer system 1988 vintage.
ASML PAS 2500/40は、高度な半導体リソグラフィーツールで、大量の製造および大規模なウェーハ処理に最適です。並列スキャンや固定マスク遅延スキャンなどの高度なスキャン技術を使用して、エッジの歪みを最小限に抑えた正確で一貫したプリントを保証します。2500/40の中心には、13。3インチ正方形の視野を備えた高度なコヒーレント画像処理装置があります。このイメージングシステムには、2つの角度の線形偏光、4つのスキャンモード、および4分割モードが組み込まれており、解像度を向上させます。このイメージングユニットは、2ミクロンの最大分解能を提供します。ASML PAS 2500/40は、6インチウェーハごとに最大12箇所、1秒間に最大10箇所の検査を行うことができます。また、複数のビューフィールドとウェーハをスキャンするためのautoscanオプションも備えています。これにより、大量のウエハの正確な検査とインプリントが保証されます。2500/40は、以前のモデルと比較して、被写界深度が向上し、露光時間が最大4倍速くなりました。ステッパーは高められた電源が装備されていて、安定した、正確な露出線量を提供します。2つの高度なサンプルトラッキングシステムにより、正確なサンプルアライメントが可能になり、ミスプリントが削減され、全体的な歩留まりが向上します。さらに、2500/40は、機械の管理と処理を容易にするための高度な制御ソフトウェアと統合することができます。統合とメンテナンスの面では、PAS 2500/40は非常にユーザーフレンドリーです。ステッパーは、部品や部品に簡単にアクセスできるモジュールツールを備えています。資産全体のセットアップ、校正、運用はわずか12分で行えます。包括的な診断スイートにより、パフォーマンスの安定性と出力の信頼性が保証されます。オールインオールのPAS 2500/40は、産業製造業務向けに設計された高性能、大容量のリソグラフィーステッパーです。高解像度イメージングモデル、自動サンプルトラッキングシステム、高度な電源など、幅広い先進技術を搭載しています。直感的な制御ソフトウェアと迅速かつ簡単なインストールにより、2500/40は大規模なリソグラフィのニーズに最適なソリューションです。
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