中古 ASML PAS 2500 / 40 #9275932 を販売中

ASML PAS 2500/40は、半導体製造の高度なリソグラフィニーズに対応した深紫外線プロジェクションリソグラフィ装置です。高度なディープUVプロジェクションオプティクス、パターン生成およびアライメントシステム、およびリソグラフィープロセスの精度と精度を確保するための基板ステージが組み込まれています。高度なディープUV投影光学システムは、格子とモノクロメータの設計に基づいており、10：1から1000：1までのさまざまな画像フォーマット、解像度、および倍率を提供することができます。この光学系は5nmのハーフフィールドコントラストを提供し、このユニットは現在のリソグラフィーのニーズとプロセス要件を満たすことができます。この機械のパターン生成およびアライメントシステムには、精密マスク、フォトレジスト充填バレル、デジタルマイクロミラー装置（DMD）などの複数のパターンソースが組み込まれています。これらは、パターンの種類と再現性の広い範囲だけでなく、精度と安定性を提供します。さらに、ASML PAS 2500/40は、8nmハーフフィールドコントラスト範囲の画像パターンに必要な精度を提供します。また、サーボコントローラを搭載し、ジッターエラーを最小限に抑えて高精度かつ再現性を実現した洗練された基板ステージを備えています。これは、最適な精度と性能を維持しながら、基板の高速、正確かつ反復可能なX、 Y、 θ運動を提供します。PAS 2500/40は、ダブルパターニングや欠陥検査、プロセス認定試験など、多くの高度なアプリケーションにも対応しています。さらに、ユーザーフレンドリーなインターフェイスと専用の制御および計測パッケージは、最先端のリソグラフィープロセスの実装を容易にする豊富な機能を提供します。全体として、PAS 2500/40は、半導体製造におけるさまざまな用途において高精度で正確な性能を提供する先進的なディープUVウエハステッパーです。高度なディープUVプロジェクション光学アセットとパターン生成およびアライメントシステムから、洗練された基板ステージとユーザーフレンドリーなインターフェイスまで、幅広い機能と機能を組み合わせており、最も複雑なリソグラフィ作業を迅速かつ効率的に完了させることができます。