中古 ASML PAS 2500 / 40 #9245669 を販売中

ASML PAS 2500/40は、マイクロチップやウェハ加工用のフォトマスク生成などのリソグラフィープロセス用に開発された先進的なウェハステッパー装置です。このデバイスは、ナノメートルレベルの露出精度と均一な露出カバレッジを提供するステップアンドリピートシステムです。このユニットは、高速かつ正確なフォトマスク製造およびリソグラフィープロセス用に設計されています。355mm x 455mmの最大基板サイズに対応でき、現在の最大オーバーレイ精度は0。5umです。ASML PAS 2500/40には、ウエハの生産を最適化するためのプロセスガス状態を継続的にリアルタイムに監視するためのアンモニアモニタが装備されています。このプラットフォームには、高速サーボアクチュエータ、12インチのナノメートル精度ステージ、最先端の照明装置など、多くの高度な機能が含まれています。照明器具は高精度の線形段階に取付けられる半導体レーザーから成り、均一、高解像度および端シャープなイメージのために正確に調節することができます。PAS 2500/40は、標準の6インチおよび8インチのウェーハ、最大5層の2Dおよび3Dウェーハ、および薄いシリコンウェーハなど、複数のタイプのフォトマスクとウェーハで動作するように設計されています。このデバイスは、ArF、 KrF、およびI-Lineを含む幅広い入力、プロセス、および出力光学系と組み合わせて使用できます。PAS 2500/40には、プロセスの歩留まりを改善し、変更やダウンタイムを削減するための洗練されたロボットおよびオートメーション機能が数多く組み込まれています。これらは自動カセットの荷を下すこと、位置およびローディング、andautomaticシャッター制御を含んでいます。プロセス固有のソフトウェア制御も利用できます。ASML PAS 2500/40は、大量の生産環境で複数のウェーハやフォトマスクを処理することができます。堅牢で信頼性の高いリソグラフィープラットフォームを提供することにより、幅広いウェーハ製造およびリソグラフィー用途において最高レベルのウェーハ品質と歩留まりを保証します。