中古 ASML PAS 2500 / 40 #9234700 を販売中

ASML PAS 2500/40は、半導体ウェハ上のフォトレジストの薄い層を正確にパターン化するために使用されるウェハステッパーです。この機械は、+/-15nmの精度と5nmの横分解能を実現することができ、最先端のリソグラフィ用途に最適です。ASML PAS 2500/40は、高度に自動化された独自の照明装置と高度な光学装置を使用してパターンを生成します。ブロードバンド・ハイパワー光源とハイNAレンズを組み合わせたプロジェクションスタイルの照明器具を搭載し、ウェーハにコヒーレント光線を正確に届けます。ビームは、ビームスプリッターと光学系を介してウェーハを正確にパターン化します。このマシンはまた、露光領域上の照明フィールドを最適化するASML非常に効果的なアドバンスズームモードを備えています。これにより、光の露出が均一であり、ウェーハのフォトレジスト層に適切であることが保証されます。また、基板サイズに関係なく画像の均一性が最大化されるため、精度、再現性、生産性の向上にも役立ちます。正確なリソグラフィ結果を保証するために、PAS 2500/40は高度なアライメントとキャリブレーション機能も備えています。このユニットは、高度なウェーハアライメント、ショットツーショット登録、およびデジタル露出プロセスコントロールマシンを使用しています。これらの機能は、各パターンが正確に作成され、ウェーハを1つの露光ステーションから別のステーションに簡単に転送できるように設計されています。このツールは、さまざまな露出条件と露出分解能を備えた幅広い基板を柔軟に露出できます。さらに、PAS 2500/40は、エクスポージャーとフィーチャーサイズをすばやく切り替えることができ、効率的な処理と迅速なプロセスのターンアラウンドを実現します。ASML PAS 2500/40は露出線量制御も可能であり、ウェーハに供給される露出線量が適切かつ一貫していることを保証します。これにより、露出プロセスの精度が向上し、再作業の必要性が低減され、ツールの可用性が向上します。さらに、このマシンには自動データ収集アセットと安全なデータストレージが含まれており、ユーザーはウェーハの露出と整合性に関するデータにアクセスできます。要約すると、ASML PAS 2500/40は、精度と精度を兼ね備えた高度なウェーハステッパーで、高価値のリソグラフィーソリューションを提供します。その特徴は、精密な露出とアライメントを必要とする半導体業界やその他の業界の製造作業に特に適しています。