中古 ASML PAS 2500 / 40 #138919 を販売中
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ID: 138919
ウェーハサイズ: 5"
Stepper, 5"
Operator training: No
PEP 2 (Color graphics): Yes
PEP 1/3/4: No
SECS (I/II): No
SECS Job creator: No
Single reticle SMIF: No
Matching manager: No
Extended file system (MEP): No
Focus enhancement package: No
Line scan: No
Dose control: No
Reticle error correction: No
Throughput enhancement: No
Batch status light: No
Reticle carrier identification: No
Extended power supply: No
88 um error detection: No
RICO Verification: No
Chuck spot detection: No
Wafer track interface: Yes
Wafer tilt monitor: Yes
Mechanical / electrical / options:
Interface: SVG 88
Stamp drive type: Non
Stamp foot type: Clean
Stamp POU filter: Yes
Cyber: SSSD
Air shower (OEPS): No
P-Chuck: MIII
P-Chuck top flat finder: No
Microscope: Adjustable
Lamp HG: 450W
Alignment PCBD: 4022.430.00900
Analog PCBD in VME: MIOS1
HDD: Solid state
TCU: No
HCU: No
Ionizer: No
Box 1: FESTO
Box 2: FESTO
Box 3: FESTO
Box 4: FESTO
Box 5: FESTO
Software: 8.1.0
Optical performance:
Uniformity: 2.5
Matching X magnification: 168
Matching Y magnification: 176
UDOF @ 0.7 micron status Q4-2008: 2.4
Astigmatism noticed: No
Focus stability: Yes
Currently de-installed.
ASML PAS 2500/40は、高精度リソグラフィ用途向けに設計されたハイエンドウェーハステッパーです。この装置は、最小線幅0。35ミクロンの正確な集積回路（IC）製造用フォトマスクを製造することができます。また、最大254mmのフィールドサイズで高スループットを提供します。このシステムは2軸の機械ステージで駆動され、16インチまたは24インチのウェーハの高精度な移動を可能にします。特許取得済みのフォーカスコントロールユニットを備えており、視野全体に均一な焦点とフィールドサイズを正確に維持します。また、真空中の投影ツールを備えているため、解像度が高く、画像の収差が減少します。アセット用の光は、クリプトン・フッ化物（KrF）エキシマレーザー源を使用して生成されます。レーザー光源は、最大60Hzのパルス反復周波数と最大100mJ/pulseのエネルギー出力を備えた248nmの波長を生成することができます。これにより、モデルは、パターンを損傷することなく、最小のパターンでも正確かつ正確に露出することができます。また、高感度アプリケーション向けに設計された低動作温度と高い熱安定性を提供します。その真空の投射部屋は± 0。3°C内のウェーハの温度を維持する高温安定性を保障します。ユーザーコントロールとキャリブレーションのために、システムはWebベースのコンピュータユーザーインターフェイスを提供します。これにより、デザインデータの入力、パターンレイアウトの調整、設定の調整、ダウンロードデータ、およびチェックユニットのステータスを簡単に行うことができます。また、ビューコントロール、ウェハマッピング、スポッティングコントロールなどの複数のリモート操作機能も備えています。結論として、ASML PAS 2500/40は、最小ライン幅0。35ミクロン、最大フィールドサイズ254 mmのIC、および高温安定性を確保する真空投影機を製造することができます。KrFエキシマレーザーは248nmの波長と最大100mJ/pulseの高エネルギー出力を提供し、パターンを損傷することなく高精度な露出を保証します。このツールはまた、Webベースのコンピュータユーザーインターフェイスを提供し、複数のパラメータを簡単に操作およびリモート制御できます。PAS 2500/40は、高精度のリソグラフィ用途に最適です。
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