中古 ASML PAS 2500 / 30 #9241931 を販売中

ASML PAS 2500/30ウェハステッパーは、半導体製造プロセスで使用される、集積回路（IC）基板の表面にパターンを露出させる装置です。シリコンウエハ上に高精度かつ安定した回路特性を高精度にプリントできる精密装置です。PAS 2500/30は、シリコンウェーハ上で希望のパターンを正確に露出させるための光学的低減技術を利用した先進的なステッパー設計です。ステッパーは、外装と内装の2つの制御システムで構成されています。外側ユニットは、クリーンルーム管理、制御プロセスへのウェーハの露出、および正確なアラインメントと精度の維持を担当しています。内部機械はウェーハの露出を微調整するために責任があります。このツールは、目的のフィーチャーのサイズを達成するために必要なパターン忠実度、アライメント、およびプロセスを監視および調整します。ASML PAS 2500/30は、さまざまな光学系とステップアンドリピートアプローチを使用しています。光学アレイは、複数のレンズ、フィルタ、およびその他のコンポーネントで構成されており、入力パターンをシリコンウェーハに指示するためにすべて正確に整列されています。この光学アレイは、ウェーハパターンを正確に露出させるためのステップアンドリピートアプローチと組み合わされています。ステッパーは、インデックスの増分を介して焦点パターンとキャリアをサイクルし、サイクルごとに固定回数でフィールド全体をステップします。これは、正確なパターン露出を確保するのに役立ちます。ステッパーの外側アセットは、ウェーハオーバーレイの大気と光の遮蔽を監視し、温度や空気圧などの周囲条件を制御することができます。これは、ウエハの露出がパターンレイアウトで指定されている通りであることを確認するのに役立ちます。さらに、PAS 2500/30には、ステッパーの性能を監視および測定するために使用できる一連の精密試験および計測ツールが含まれています。これらのツールは、ステッパーの露出、アライメント、およびパフォーマンスに関連するデータを提供し、その操作に関する潜在的な問題を特定するのに役立ちます。全体として、ASML PAS 2500/30は、半導体製造プロセス向けに設計された高度で正確なウェーハステッパーです。シリコンウエハ上にパターンを高精度に露出させることが可能で、高品質な集積回路の製造が可能です。このステッパーは、現代の半導体製造施設にとって貴重な装置です。