中古 ASML NXT 1950Ai #9280821 を販売中

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ID: 9280821
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2012
ARF Scanner, 12" Process: Lithography CIM: SECS, GEM Inform pro Hardware configuration: (Fab) Main system FOUP Options: ART RH Interface IRL XP TOP RC 1 & 2 Aux exhaust unit CYMER Laser Flex ray Base liner focus / OL / HOPC Smash XY Agile 1 Spotless Aux load port Focus improvement package PEP High dose Hardware configuration: (Sub fab / Auxiliary units) CYMER XLR 660 Laser 2012 vintage.
ASML NXT 1950Aiは、半導体製造技術のリーディングイノベーターの1つであるASMLの最先端ウェーハステッパーです。この装置はASML NXTシリーズの製品に加えて、幅広いウェーハ処理ニーズに対応する比類のない精度、汎用性、拡張性を備えています。NXT 1950Aiは、超短波、完全に安定化されたレーザー部品と4倍のモノクロメータからなる高度なリソグラフィ投影光学を備えています。これにより、現代のウェーハリソグラフィに不可欠な非常に複雑な投影パターンの高精度と再現性が保証されます。また、プロジェクションレンズには、新開発の収差補正システムを搭載し、最高画質を実現しています。この機械は4軸の複雑なモーションユニットを備えており、ステッパーがウェーハの周りを正確かつ迅速に移動することができます。これにより、ウェーハをプロジェクションオプティクスに正確にアライメントし、レンズの焦点をウェーハ表面に調整することができます。ASML NXT 1950Aiは、最も先進的な半導体ウェーハ製造の要件の範囲内で、65ナノメートルまでの機能サイズを解決することができます。これはレーザー光源の高強度によって可能になり、ウェーハへの高速ビーム配信が可能になります。また、より細かいリソグラフィ機能に必要な場合は、露光時間が延長されます。さらに、自動アライメントマシンを搭載しており、ウェーハのアライメントを簡単かつ正確に行うことができます。より小さな寸法でウェーハを製造する場合、NXT 1950Aiは高解像度の直接書き込み(HRDW)プロセスにも使用できます。これらのプロセスにより、ウェーハを直接書き込むことで、リソグラフィーコストの削減を目指しています。最後に、ASML NXT 1950Aiは最大の稼働時間と生産性を実現するように設計されています。大容量の冷却ツールと高度な振動絶縁機能を備え、安定した信頼性の高い動作を実現します。さらに、すべてのコンポーネントにアクセスしてトラブルシューティングするのは非常に簡単で、定期的なメンテナンスにかかる時間とコストを最小限に抑えます。結論として、NXT 1950Aiはウェーハステッパー技術の最先端にあり、半導体生産のための強力なツールとして立っています。幅広いウェハリソグラフィープロセスに対して最高レベルの精度と精度を提供するとともに、微細な半導体デバイスを製造するための直接書き込み機能を提供します。さらに、堅牢な設計により、信頼性の高い運用とメンテナンスコストを最小限に抑えます。
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