中古 ASML AT-850C #9269680 を販売中
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ID: 9269680
Stepper, 12"
SMIF
SECE I / II
Reticle size: 6"
Wafer type: Notch
Left inline flow
FOUP Left type: WH
MK V Type: RH Library
PPD Type: PPD2 + IRL
BMU Type: Standard
Light source: CYMER
Scan speed: 320 mm/sec
Chuck
2004 vintage.
ASML AT-850Cは、半導体業界の最新世代の半導体ウェーハの微細パターンを正確かつ正確に定義するために設計された高度なウェーハステッパーです。ウェーハ上に堆積したフォトレジストの薄い層に光を投影することで、集積回路で使用されるケイ酸塩成分の基礎となる正確なパターンを作成することができます。ASML AT850Cは完全に自動化されたスキャナで、ウェーハフィールド全体を1回転でスキャンし、ウェーハの全表面領域に1ショットで画像を投影することができます。これにより、効率的で一貫したフォトリソグラフィが可能になります。このシステムは350mmのステージサイズを備えており、複数の異なるウェーハを一度にステージに配置することができ、複数の処理を実行できます。AT:850Cは、より高いスループットインスタンスのための高度な機能を備えて設計されています。これには統合された堅牢なLitho Inspectorが含まれており、生産中にパターン、欠陥、およびその他のリソグラフィックの問題を監視できます。ウェーハステッパーには高度なステージがあり、最小の機能でもアライメントを極めて厳格に制御できます。ステージはまた、2つの異なる回転速度でプロセスを実行することができます。ASML AT 850Cには、レーザーダイレクトイメージング（LDI）やフォトリソグラフィーイメージング（PI）など、多くの照明方法もあります。これらの方法のいずれかを使用して、ウェーハのさまざまな領域を異なるレベルの光放射にさらすことで、高解像度の画像を作成することができます。0。35ミクロンという小さな特徴を解消することができ、AT 850 Cは非常に複雑で詳細なシリコン部品を生成することができます。ASML AT 850 Cは、高度な同期および非同期モーションコントロールとダイナミクスも備えており、非常に高速なスキャン速度と再現性を実現しています。システムはモジュラープラットフォームに基づいているため、特定のアプリケーションやプロセスに合わせてカスタマイズでき、ユーザーに完全な柔軟性を提供します。最後に、AT850Cは非常に頑丈で堅牢で信頼性の高いステッパーであり、常に厳格な品質保証テストを受けており、常にピーク性能で実行されています。その高度な機能と生産能力により、今日市場で入手可能な最も技術的に高度なウェーハステッパーの1つです。
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