中古 ASML AT 1200B #293752358 を販売中

ASML 1200Bは、集積回路（IC）の製造に使用される高度なウェーハステッパーです。紫外線やフォトレジストを使ってICをパターン化するフォトリソグラフィックツールです。ASML 1200Bはウェーハレベルのステップアンドリピート機器で、光学設計が改善され、カラム角が急になっています。これにより、より多くの光がウェーハの表面に到達し、より高速なスループットとより高いスループットの歩留まりを可能にします。ステッパーの精度も高く、特徴サイズは0。6ミクロン、アライメント精度は1ミクロン未満です。ASML 1200Bには多目的なアライメントシステムがあります。ラインスプレッド機能（LSF）、臨界寸法均一性（CDU）、エッジ配置精度（EPA）、低粒子レベル（LPL）、および最適なデバイス性能に必要なその他のパラメータを生成できます。このユニットは、ICパターニングプロセスの歩留まり最適化を可能にする調整可能な露出設定とダミーフィールドモニター（DFM）も提供します。ステッパーは自動焦点調整機能も備えており、最適な焦点を常に監視および調整することができます。ステッパーはまた、露出設定の範囲のためのプログラム可能なパラメータを備えています。ASML 1200Bは、最適なリソグラフィーパターニングのためのさまざまなフォトレジストおよび反射防止コーティング（ARC）を処理できます。ポジティブフォトレジストとネガティブフォトレジストの両方に対応し、デバイスの種類を正確に最適化できます。このツールは、直径8インチまでのシングルダイウエハを処理することができます。このデバイスはまた、直径12インチまでの複数のダイウエハを処理してスループットを高速化する機能を備えています。要約すると、ASML 1200Bは、スループットの向上、デバイスの精度の向上、プログラマブルなパラメータ、最適化されたデバイスパターニングプロセスのための調整可能な露出設定を提供する高度なウェーハステッパーです。シングルダイウエハ、マルチダイウエハ、各種フォトレジスト、ARC材料に対応し、集積回路の製造において優れた性能を発揮します。