中古 ASML 100D #293817343 を販売中

ASML 100Dは、半導体製造の過程で半導体ウェーハ上の細かい細かいパターンを作成するために使用されるウェーハステッパー、またはリソグラフィーマシンです。本機は、ウェーハ基板上のフォトレジストコーティングと組み合わせて使用され、本機の光学系が放射する光と反応して基板上に回路パターン設計を投影します。ASML/ 100Dは、0。25 μ mまたは250 nmの解像度まで、非常に精密なパターン画像を生成することができます。機械の投影光学はキネマティックミラー装置に基づいており、投影画像のサイズ、形状、向きに完全な柔軟性を提供します。光学システムは、5 μ mから200 μ mの間でパターン画像のサイズを調整するために使用され、ピッチ精度はすべての軸で0。5 μ mです。100Dは、統合されたダイレクトウェーハアライメント、大口径ユニット光学、および0。5 μ mのイメージステップサイズなどの機能を備え、最大のパフォーマンスと柔軟性を実現するように設計されています。機械にウェーハのスキャン周期中の高精度で、滑らかな動きを提供する複数のレベルの慣性段階があります、 ウェーハクランプは、ウェーハ上の機械的負担を軽減するために構築されています。/100Dはまた、歪み、不要な光の漏れ、または他のプロセスレベルの変数を考慮するためにレジスト層の中の画像を変更することができる強化レジスト均一性マシンを備えています。この機能により、ウェーハパターンの重要な寸法を最小のフィーチャサイズまで維持できます。直径200mmまでのウェーハ加工が可能で、ハイエンドモデルでは0。5秒の露光時間があり、基材の高速加工が可能です。また、ASML 100Dは、ウエハーの整列や基板表面へのパターン整列の再現可能な最適化のための高精度ステージだけでなく、画像形状とサイズのマルチレベル制御にも対応しています。ASML/ 100Dは、半導体製造においてこれまでにないレベルの精度と精度を提供する強力なリソグラフィ装置です。その高度なデザインは、業界全体でハイエンドの製造と生産プロセスのための人気のある選択肢になります。