中古 ARTEC Eva Lite #9253485 を販売中

ARTEC Eva Liteは、フォトマスキングやナノ加工市場向けに精密かつ正確なアライメントを提供するウェハステッパーです。これは、リソグラフィ、デジタルリソグラフィ、および高度なマスクにおけるフォトマスクのアライメントとナノインプリントのリソグラフィ要件に費用対効果の高い信頼性の高いソリューションを提供するように設計されています。Eva Liteは非常に構成可能で、費用対効果の高いフォトマスクアライメントに最適なソリューションを提供します。ARTEC Eva Liteの「Eva」は「Electronic Visual Alignment」の略で、高度でユーザーフレンドリーなソフトウェアプラットフォームに基づいています。このプラットフォームは、ユーザーに迅速かつ簡単なパターン登録とマスクのアライメントを提供し、Eva Liteは要求の厳しいナノファブリケーションとフォトマスクのアプリケーションに適しています。ARTEC Eva Liteは、高精度で再現性のある堅牢なプローバ構造を備えています。また、高精度の光学ウィンドウが付属しており、プローバ上のアライメントプロセスを正確に観察できます。Eva Liteは非常に構成可能で、さまざまなアラインメントとオプティカルマスクを幅広く提供します。また、コンフィギュレーション可能な露出システムを提供し、ユーザーはジョブの要件に応じて適切な露出設定を選択することができます。ARTEC Eva Liteは、最大4。2インチウェーハサイズのステッピング機能を提供します。最大ステップオーバー精度は3。0 μ mで、パターンやマスクの高精度なアライメントを実現します。Eva Liteは、マスクのアライメントと露出設定を自動的に修正および調整する高速オートキャリブレーション機能を備えています。マスクの高解像度アライメントを提供する4軸システムを備えており、最大ステップと時間の最適化のためのEFEMトラックが含まれています。ARTEC Eva Liteには、高帯域幅パターン登録用のオンボードシグナルジェネレータがセットになっており、マスクアライメントプロセスの精度をさらに高めています。Eva Liteには、再現可能な精度を確保するために、統合された組み込みメモリシステムがあり、ユーザーは以前の結果設定を保存し、異なる実行間の結果を比較することができます。また、包括的なプロセス制御インターフェースを備えており、ユーザーはワークフローを簡単に管理し、繰り返し可能な結果を保証することができます。さらに、ARTEC Eva LiteはSEMI®の認定を受けており、厳しい業界基準を満たすように設計されています。全体として、Eva Liteは、フォトマスキングとナノ加工市場に正確なアライメントを提供するように設計された、信頼性が高く費用対効果の高いウェーハステッパーです。その機能と構成可能性の範囲は、生産および研究アプリケーションのための理想的なソリューションになります。