中古 TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #9391714 を販売中

TEL/TOKYO ELECTRON NS 300は、半導体業界のニーズに合わせて設計されたウェーハおよびマスクスクラバー装置です。ガラス基板と薄膜パターンを備え、最大5インチ、8インチサイズのウエハに対応できる完全自動3段スクラビングシステムです。スクラビングユニットは、洗浄マニホールドの「逆流設計」を強化し、ウェーハ材料、サイズ、および構成の組み合わせにおいて、正確で信頼性の高い洗浄プロセスを提供することができます。洗浄結果を向上させるために、スクラビングマシンは、ウェーハ表面から粒子を完全に除去するために垂直および水平の両方のスプレーを採用しています。特許取得済みのスクラバー設計は、ウェーハ表面から取り除かれたすべての粒子を完全に浸漬洗浄し、一般的な液体廃棄ラインを介して収集するための残留物をウェーハ表面から取り除きます。TEL NS 300には、パワフルなマルチヘッド回転式クリーニングワンドが搭載されており、基板の表面全体にわたって一貫した制御されたカスケード動作を実現する正確な位置決めスプレーが装備されています。このプロセスは、粒子のぶつかり合いを減らし、再蒸着を減らし、洗浄プロセス中の粒子除去を強化するのに役立ちます。ウェーハとマスクスクラバーは、強力な化学プリソークを使用しており、化学的に活性化された粒子が浸漬タンクに再入力する前に完全に除去されるようにしています。ケミカルプリソークと強力なスクラビングワンドの組み合わせは、完全なクリーンに必要な全体的な時間を大幅に短縮します。クリーニングプロセスを監視し、正確さと一貫性を確保するために、ウエハスクラバーとマスクスクラバーには、オペレータがタンクウォールの背後にある領域を表示できる埋め込みビデオツールがあります。これにより、オペレータは洗浄プロセス全体をリモートで監視することができます。オペレータはまたクリーニングプロセスを最適化するために変数を見直し、調節できます。ウェーハとマスクスクラバーは、市場で入手可能な化学処理や洗剤の広い範囲と互換性があります。これにより、スクラバーは効果的に最高レベルの精度で複数の基板および化学組成物を洗浄することができます。東京電子NS300は、高度な洗浄機能に加えて、逆電流エンジニアリングを利用してエネルギーコストを削減し、水と洗剤の使用量を削減し、排水量を削減し、関連する全体的なエネルギーコストを最小限に抑えることができます。NS300のすべてのコンポーネントは、最大の運用効率とパフォーマンスを保証する包括的なサービスプランによってサポートされています。これにより、信頼性の高い効率的なウェーハおよびマスクスクラバー資産を求める半導体ファブリケーターにとって理想的な選択肢となります。