中古 TEL / TOKYO ELECTRON NS 300 #293614676 を販売中

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ID: 293614676
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Wafer scrubber, 12" Material: Silicon Utility outlet: Vertical downward Carrier station block Carrier stage height: 900 mm Wafer transport method: Robotics transport method (X, Y, Z, Θ) Sensor placement sensor Presence sensor Mapping sensor Wafer out sensor Load port: Bolts / Light Loader: FOUP Load port lockout pin: FEOL Load port indicator Operator access switch FOUP Type: (25) Wafers Kinematic coupling pin Clamp Fan Filter Unit (FFU) AMHS: SHINKO ELCTRIC OHT I/O Sensor ES Switch terminal block Carrier ID reader Alarm lamp: Red / Blue / Yellow / Green Direct drain Digital manometer exhaust monitor Does not include HDD Scrubber process station: Mechanical chuck Wafer holding method: 6-Pins edge contact method Wafer fixing method: 3-Points grip method Wafer sensor N2 Purge backside liquid contact prevention Acceleration: 100 to 1,000 rpm (100 rpm/s increment) Dual band monitor: Alarm rpm bandwidth, stop rpm bandwidth Alarm / Stop rpm setting range: ±0 to 1,000 rpm Process recipes: 1000 Recipe steps: 100 Process time setting: 0 to 999.9 sec/step (0.1 sec increment) Arm: Brush and spray PVA and PP Brush Atomized spray nozzle Flow range: 100 L/min Basic setting: 0.2 L/min (2) Side rinse nozzles ENTEGRIS DIW Filter Rinse nozzle purge method: Slow leak ULPA Filter Rotation speed: CH2-1, CH2-2: 0, 10 to 3,000 rpm (1 rpm increment) CH2-3, CH2-4: 0, 10 to 4,000 rpm (1 rpm increment) AC Power box: Round terminal for main breaker Voltage: 208 V Option: CCD Camera Spinner internal lighting 2006 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON NS 300 Wafer&Mask Scrubberは、さまざまな業界で使用される信頼性の高い効率的なツールです。TEL NS 300 Wafer&Mask Scrubberは、半導体製造および関連産業で主に使用され、製造プロセスの制御と歩留まりを改善するためのクリーナーウェーハとマスクを提供します。TOKYO ELECTRON NS300 WAFER&MASK SCRUBBERは、コンパクトで使いやすいデザインで、汚染されたウェーハやスプレー、石英マスク、ガラス板などの洗浄に非常に効果的で効率的です。NS300ウェーハ&マスクスクラバーは、120リットルの振動/スクラブボトムタンクで設計されており、最適な洗浄結果を得るために調整可能な速度を備えています。スクラビングアクションは、回転する攪拌プレートによって行われ、あらゆる方向から均一な洗浄が得られます。スクラブユニットは非常に耐久性が高く、きれいな表面を作成することができるだけでなく、騒音レベルは静かで、法定レベル内であり、ほとんどの環境に適しています。TEL/TOKYO ELECTRON NS300 Wafer&Mask Scrubberは、温度制御装置とデジタル表示温度センサーを搭載し、効率的かつ正確に温度を調整することができます。このスクラバーには、排水システム、多くの異なる洗浄サイクルを備えた自動超音波洗浄ユニット、制御された排水のための自動排水制御機、および温度設定と温度制御のための精密な制御ツールが付属しています。さまざまなプラットフォームのニーズに対応するため、大型のチルトアウトウィンドウ、防振脚、調節可能なエアピストル、幅広い種類の浸漬ソリューションを備えているため、ユーザーは特定の要件を満たすためにプロセスをカスタマイズする柔軟性があります。全体として、TEL NS300 Wafer&Mask Scrubberは、パワフルでユーザーフレンドリーで直感的なツールで、生産プロセスの時間とコストを節約します。耐久性のある構造により、NS 300ウェーハ&マスクスクラバーはウェーハとマスクを迅速かつ効果的にクリーンにすることができ、温度制御アセットと精密制御モデルはプロセスの信頼性とパフォーマンスをさらに向上させます。
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