中古 TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+ #293757169 を販売中
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ID: 293757169
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2007
Single wafer processor, 12"
Process flow: DSP, SC1, IPA
(12) Chambers
2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CELLESTA+は、半導体製造プロセスの厳しい要件を満たすために優れた洗浄性能を提供する先進的なウェーハおよびマスクスクラバーです。最先端の技術と革新的な機能を組み合わせることで、集積回路やその他の半導体製品の製造において高い生産性と効率を確保します。TEL Cellesta+スクラバーの主な特徴の1つは、ウェーハやマスクからさまざまな汚染物質や粒子を除去するために不可欠な最先端の洗浄機能です。このスクラバーは、物理洗浄法と化学洗浄法を組み合わせて、きれいな洗浄レベルを達成し、半導体デバイスの全体的な歩留まりと品質に貢献しています。高度なスクラビングブラシとノズルを装備し、繊細なウェーハ表面を優しく効果的に洗浄するように設計されています。これらのコンポーネントは慎重に設計されており、ウェーハ全体にわたって均一な洗浄を保証し、洗浄プロセス中の損傷または欠陥のリスクを最小限に抑えます。さらに、スクラバーは、さまざまな種類の汚染物質やプロセス要件に対応するためのカスタマイズ可能なクリーニングパラメータとオプションを提供しています。東京エレクトロンセレスタ+スクラバーは、洗浄性能に加え、インテリジェント制御システムとオートメーション機能を搭載し、洗浄プロセスを合理化し、生産性を最適化します。この機器には直感的なユーザーインターフェイスとソフトウェアコントロールが装備されているため、オペレータは簡単にクリーニング操作を設定および監視でき、手動での介入を最小限に抑えて一貫した信頼性の高い結果を保証します。さらに、このスクラバーは、半導体製造施設で要求される厳格な清浄度と安全基準を満たすように設計されています。この装置には、洗浄薬品や汚染物質の効果的な除去と処分を確実にするための高度なろ過および化学物質管理システムが装備されており、相互汚染および環境への影響のリスクを最小限に抑えています。Cellesta+スクラバーのもう1つの重要な利点は、既存の半導体生産ラインとプロセスフローに容易に統合できるモジュール設計です。この装置は、特定のスループットと洗浄要件を満たすようにカスタマイズでき、幅広い半導体製造用途に適応できます。全体として、TEL/TOKYO ELECTRON CELLESTA+スクラバーは、ウェーハおよびマスク洗浄技術の大幅な進歩を象徴し、製造工程において最高レベルの清浄度と品質を達成しようとする半導体メーカーに優れた性能、信頼性、柔軟性を提供します。この装置は、高度な機能と機能を備えており、半導体技術の継続的な進歩と次世代半導体デバイスの開発を可能にする重要な役割を果たしています。
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