中古 SSEC M3302 #9229623 を販売中

SSEC M3302は、高性能ウェーハとマスクスクラバーです。半導体ウェーハやフォトマスク基板の表面粒子を正確かつ効率的に除去するように設計されています。SSEC M 3302は、高圧ジェットと真空抽出の組み合わせにより、優れた洗浄性能を発揮します。機械タンクは化学薬品に抵抗し、容易なクリーニングおよび維持を可能にするためにステンレス鋼から完全に成っています。M3302は、ウェーハやフォトマスク基板の種類に合わせて簡単に調整できる可変速度コンベアを備えています。これにより、材料の種類に関係なく一貫した洗浄プロセスが可能になります。洗浄工程では、ブラシスクラブと水または化学薬品の高圧ジェットを組み合わせて表面粒子を照射します。SSEC M3302は、この方法を使用して、最も困難なクリーンルームのアプリケーションにも徹底的なクリーニングを提供することができます。SSEC M 3302には、プロセス内で使用されるクリーニングメディアの濃度を正確に制御するための調整可能な流量バルブが装備されています。最適な品質結果を確保するために、流量を調整して、洗浄されているウェーハ表面積に対するクリーニングメディアの一貫性のある比率を維持します。さらに、過酷なクリーニングソリューションとソフトクリーニングソリューションの切り替えを希望するオペレータには、事前プログラム可能な設定M3302付属しています。これにより、手動で設定を調整する必要なく、1つのクリーニングソリューションから別のクリーニングソリューションに素早く簡単にsafechangeできます。さらに高品質な結果を得るために、M 3302は、クリーニング中に異常な振動を検出するように設計された動的振動検出システムを備えています。振動が検出された場合、マシンは即座にシャットダウンし、ウェーハやフォトマスクのクリーニングへの損傷を防ぎます。SSEC M3302は、半導体ウェーハおよびフォトマスク基板を迅速かつ効率的に洗浄する方法を提供するように設計されています。SSEC M 3302は、クリーニングソリューションと強力なブラッシングおよび高圧ジェットシステムを正確に制御することで、最も過酷なクリーンルーム用途でも品質の高いクリーニングを保証します。さらに、調整可能な流量と事前プログラム可能な設定により、このマシンは、さまざまな方法で複数の基板を洗浄するための迅速かつ簡単な手段を提供します。