中古 SSEC 3300 #9308967 を販売中

SSEC 3300
ID: 9308967
Single wafer spray cleaning system With HPC.
SSEC 3300は、Semes、 Inc。が開発した自動ウェーハおよびマスクスクラバーで、非常に純度の高い、ほこりのない基板とマスクを提供します。スクラバーは、高圧、イオン化、濾過された水を使用して、半導体デバイスの製造に起因する表面汚染と材料の蓄積を除去します。3段階の洗浄プロセスは、振動スプレーバー、真空ローラー、スピンアシストで構成されています。振動スプレーバーは均一な水圧と明確なスプレーパターンを作成し、洗浄プロセスの最初の段階で細かい粉塵粒子やその他の粒子残留物をサスペンドして素早く除去するのに役立ちます。強烈なスプレーパターンと調整可能な水圧設定を使用して、3300は一度に150までのウェーハを効果的に洗浄することができます。第2段階のスクラブは、調整可能な真空ローラーを使用して、ウェーハ表面に残っている残留物を慎重に除去します。ローラーはそれに粒子か塵が付かないで表面をきれいに残すように設計されています。ブラシはまた余分クリーニングを必要とするかもしれないより困難な粒子のために使用することができます。最後に、スクラブの第3段階は、スピンアシストを使用して分解し、頑固な粒子のビルドアップを持ち上げることです。スピンアシストは可変速度で使用することができ、難しい汚染を除去することができます。また、洗浄剤の均一な分布を保証したり、洗浄されたウェーハをすすぎます。スクラバーは抵抗のメートルによって制御される伝導性の範囲からのライン、ろ過され、イオン化された水からの水を使用するように設計されています。SSEC 3300は、製造中に空気中の粒子、塵、およびミシャンドリングからの汚染にさらされたウェーハやマスクをスクラブするのに理想的です。スクラバーは容易な操作および簡単な維持のためにクリーニングの正確さおよび最高の性能を保障するように設計されています。自動化されたサイクルタイマー、低水位モニタリング機能、およびクリーニングプロセスのより大きな制御を提供する調整可能な手動洗浄システムが装備されています。
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