中古 LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #293606441 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Synergyは、繊細な半導体ウェーハを処理するために使用されるウェーハとマスクスクラバーです。リソグラフィーシステムなどの半導体製造装置に使用されるウェーハやマスクの表面を洗浄するために特別に開発されました。スクラバーは、ウェーハやマスクから表面汚染を除去し、フォトリソグラフィープロセスの一部として使用すると欠陥や損失を引き起こす可能性のある粒子を除去するように設計されています。スクラバーは、スクラバーとスクラバーの2つの主要なコンポーネントで構成されています。スクラバーは非破壊装置であり、スクラバー室にはクリーニングチャンバーと塩素化装置があります。スクラバーは、2つの反転スクラブディスクで構成されています。振動ダンパーと処理中のウェーハやマスクを乾燥するための排気ファンのセットです。スクラブディスクはウェーハの表面から粒子を除去するように設計されていますが、振動ダンパーはスクラブ処理中に敏感な材料をチッピングまたは割れるリスクを低減します。スクラバーチャンバーは、メインプロセスチャンバー、リンスチャンバー、マスククリーニングチャンバーで構成されています。メインプロセスチャンバーは、ウェーハ表面を清掃・研磨するように設計されており、スクラビングプロセスから排水を排出する排気システムが装備されています。洗浄チャンバーは、ウェーハの最終的な洗浄と洗浄のために設計されており、信頼性と一貫した洗浄性能を可能にします。最後に、マスクのクリーニングチャンバーは、圧力のないプロセスでマスクをきれいにするために使用され、マスクへの損傷のリスクが少ないより良いクリーニング結果を提供します。また、スクラバーには、スクラビングプロセス中に発生する廃水の容易な収集とリサイクルを可能にする機能があります。また、乾燥前にウェーハ表面から粒子を除去するパワーヘッドフィルターを使用した高度な真空システムを備えています。さらに、スクラバーの設計は、工具交換を必要とせずに動作し、スループットを向上させ、ダウンタイムを削減できるようになっています。このスクラバーは、幅広いウエハサイズをサポートし、実証済みのスクラバーディスク設計を使用して、ウエハ表面からの最適な汚染除去を実現します。全体として、ONTRAK Synergy WaherとMask Scrubberは、半導体加工アプリケーションに信頼性の高い費用対効果の高いソリューションを提供します。その高度な設計と機能は、ウェーハやマスクの洗浄性能を向上させ、ユーザーの安全性を向上させます。また、廃水の回収・リサイクルが容易で、効率的なフィルターシステムにより、補修後の汚染や歩留まり損失を確実に防ぎ、半導体ファブにとって効果的なソリューションとなっています。