中古 LAM RESEARCH / ONTRAK DSS 200 Series 0 #9224100 を販売中
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LAM RESEARCH/ONTRAK DSS 200 Series 0は、半導体製造環境で使用するために設計された先進的なウェーハおよびマスクスクラバーです。スクラバーの設計により、標準的なフォトマスクから集積回路（IC）を備えた非常に複雑なフォトマスクまで、幅広い材料で優れた性能を発揮します。スクラバーは、マスクとウェハータイプの両方を含むほぼすべてのタイプのマスクを効率的に洗浄することができます。このスクラバーは、高圧空気と振動ディスクブラシの組み合わせを利用して、フォトマスク残留物とフォトマスク表面からの粒子汚染を迅速かつ効果的に除去します。最初にエアノズルを使用して、水、石鹸、または洗浄液の加圧スプレーをフォトマスクの表面に塗布します。これに続いて、溶液を攪拌し、フォトマスクから残留物や粒子の汚染を除去する回転ブラシが続きます。スクラバーはフォトマスクへの損傷を最小限に抑え、すべてのマスクとウェーハ表面が徹底的に洗浄されるように設計されています。スクラバーには、フォトマスクが保護されていない状態にあるときにスクラバーが作動するのを防ぐ内蔵の安全システムも含まれています。これにより、敏感な表面を傷つけることなく、フォトマスクを安全に清掃できます。さらに、このスクラバーではオプションのバイオセーフティフィルターを使用することができ、空気中の破片がオペレータの肺に侵入したり、周囲の環境を汚染したりするのを防ぐことができます。このスクラバーは高いスループット能力を備えており、1時間あたり最大200ウェーハの容量が可能です。これにより、迅速かつ効率的な洗浄と同時に、高い清潔度を維持することができます。スクラバーには、過負荷、過電圧、および短絡保護を備えた三重冗長電源が搭載されており、信頼性の高い動作を保証します。結論として、ONTRAK DSS 200 Series 0は、半導体製造環境に優れた洗浄性能を提供するように設計された先進的なウェーハおよびマスクスクラバーです。スクラバーは、効率的な洗浄機能と組み込みの安全システムと高いスループット容量を組み合わせて、フォトマスクの信頼性と安全な洗浄を保証します。
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