中古 G&P TECHNOLOGY 412R #293823240 を販売中

ID: 293823240
ウェーハサイズ: 4"-12"
Post CMP cleaner, 4"-12" Main unit (2) Process chambers PVA double-sided brush stations Multi-line chemical dispense system Color touchscreen interface Status tower light Integrated control system Chemical modules Multi-stage cleaning process: Pre-clean station First brush scrubbing stage Second brush scrubbing stage Megasonic cleaning stage Spin-dry station Internal plumbing, wiring, accessories are included.
AXUS/G&P TECHNOLOGY 412Rは、半導体産業のために設計された最先端のウェーハおよびマスクスクラバーです。半導体製造で使用されるウェーハやマスクの効率的な洗浄と加工を保証するための高度な技術と機能が組み込まれています。AXUS 412Rの中心には、ウェーハやマスクから汚染物質や残留物を除去するために不可欠な堅牢なスクラブ機構があります。スクラバーには高性能ブラシとクリーニングパッドが装備されており、徹底的かつ一貫したクリーニング結果を達成できます。これらのツールは、デリケートなウェーハやマスクに優しく設計されています。G&P TECHNOLOGY 412Rは、小型半導体ダイから大型基板まで、さまざまなサイズのウェーハに対応できるように設計されています。その汎用性の高いチャッキングシステムは、クリーニングプロセス中にウェーハを安全かつ正確に取り扱うことを保証します。この機能は、ウェーハの完全性を維持し、スクラブ中の損傷を防ぐために特に重要です。412Rの重要なポイントの1つは、高度なオートメーション機能です。スクラバーには、ユーザーが特定の要件に応じてクリーニングパラメータをカスタマイズできるインテリジェントコントロールとプログラム可能な設定が装備されています。このレベルの自動化は、操作を簡素化するだけでなく、バッチ後の一貫した再現性のある洗浄結果を保証します。AXUS/G&P TECHNOLOGY 412Rは、スクラブ機能に加えて、包括的なプロセス監視および制御機能を提供します。スクラバーには、洗浄液、温度、圧力レベルなどの重要なパラメータを継続的に監視するセンサーと検出器が装備されています。このリアルタイムフィードバックにより、オペレータは洗浄性能を最適化し、運用効率を維持するために迅速な調整を行うことができます。AXUS 412Rもユーザーの利便性を考慮して設計されています。ユーザーフレンドリーなインターフェイスと直感的なコントロールにより、オペレータは最小限のトレーニングでスクラバーをセットアップして操作することができます。このスクラバーには、業界の規制や基準に準拠するための安全機能も装備されており、オペレータに安全な作業環境を提供します。さらに、G&P TECHNOLOGY 412Rは、耐久性と信頼性を念頭に置いて構築されています。堅牢な構造と高品質のコンポーネントにより、長期的なパフォーマンスとダウンタイムを最小限に抑えます。この信頼性は、生産スケジュールを満たし、高品質な製品をお客様にお届けするために、継続的な運用が不可欠な半導体製造設備にとって重要です。全体として、412Rは半導体業界におけるウェーハおよびマスク洗浄のための最先端のソリューションです。AXUS/G&P TECHNOLOGY 412Rは、高度なスクラブ技術、多彩な機能、オートメーション機能、プロセスモニタリング、ユーザーフレンドリーな設計により、洗浄プロセスを最適化し、優れたウェーハおよびマスク品質を達成することを目指す半導体メーカーにとって貴重な資産です。
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