中古 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627543 を販売中
URL がコピーされました!
タップしてズーム
ID: 293627543
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/ CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2005 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubberは、完全に自動化された複数の操作モードでウェーハおよびマスク面を洗浄するように設計された、信頼性が高く、効率的で正確なツールです。このスクラバーは、高度な半導体製造プロセスの一環として作成されました。スクラバーは加圧された、洗剤が付いている熱湯、および効果的にウェーハおよびマスクの表面積をごしごし洗うのに低真空の吸引を使用します。このプロセスは完全に平らで滑らかな表面を作成し、物理蒸着の次のステップの間に完全なエッチングパターンを可能にします。スクラバーには、洗浄中に表面から脱落した小さな粒子が除去されていることを確認するための精製装置も含まれています。スクラバーは、クリーニングに2〜3パスカル程度の圧力しか使用しない強力でエネルギー効率の高いポンプや、粒子除去のための別の低真空吸引など、幅広い機能を備えています。ポンプはまたクリーニングプロセスのよりよい制御のための調節可能な流量を特色にします。さらに、スクラバーは超高精度モードを備えているため、デバイスはウェーハまたはマスク内の微細な領域を正確にターゲットしてスクラブすることができます。スクラバーには、簡単に調整可能でプログラム可能なモーションコントロールシステムも装備されています。この機能により、オペレータは手元のタスクにスクラバーをカスタマイズすることができます。モーションコントロールユニットはまた、スクラバーが安全で信頼性の高い方法で使用されることを保証します。さらに便利で正確なDNS SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubberには、スクラバーのモーションコントロールマシンで動作するデジタル画像処理ソフトウェアが付属しています。このソフトウェアは、ウェーハまたはマスクの表面の欠陥を分析して認識することができ、スクラバーの設定を調整して表面を迅速かつ効果的に清掃することができます。全体として、ダイニッポンSS 3000 ARウェーハ&マスクスクラバーは、半導体製造業向けに準備されているウェーハやマスクの表面を高品質で均一に作成できる信頼性の高い効率的な設計ツールです。高精度のアセット、効率的な省エネ機能、およびデジタル画像処理ソフトウェアにより、DS-3000-ARは製造工程に準備されている表面が適切に洗浄され、エッチングの準備ができていることを確認できます。
まだレビューはありません