中古 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293627542 を販売中
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ID: 293627542
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Wafer scrubber, 12"
(3) Load ports
Controller
(3) MFC / Pressure unit
Drive mechanism
Chamber A and B:
Process: Wafer surface clean
Chuck: Vacuum chuck
Spray: Soft spray N2 10~100NL/min
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 3,000 rpm
Chamber C and D:
Process: Wafer backside clean
Chuck: Mechanical chuck
Brush: PVA Brush
Rinse: DIW/CO2 Injection, resistivity <1MΩ
Spin dry: 2,400 rpm
Multi-chambers system:
Unit position 1 / U03 SS (surface) / CO2water
Unit position 2 / U04 SS (surface) / CO2water
Unit position 3 / U05 SS (backside) / CO2water
Unit position 4 / U06 SSR (backside) / CO2water
Gas configuration:
Gas line 1: C4F6 200 sccm- STEC D519 / C4F6 200
Gas line 2: COS 30 sccm - STEC D519 / COS 30
Gas line 3: O2 20 sccm - STEC D519 / O2 20
Gas line 4: O2 3000 sccm - STEC D519 / O2 3000
Gas line 5: CH2F2 200sccm - STEC D519 / CH2F2 200
Gas line 6: C4F8 200 sccm - STEC D519 / C4F8 200
Gas line 7: O2 200 sccm - STEC D519 / O2 200
Gas line 8: Ar 1000 sccm - STEC D519 / AR 1000
Gas line 9: CHF3 200 sccm - STEC D519 / CHF3 200
Gas line 10: H2 300 sccm - STEC D519 / H2 300
Gas line 11: NF3 30 sccm - STEC D519 / NF3 30
Gas line 12: N2 500 sccm - STEC D519 / N2 500
Gas line 13: CF4 200 sccm - STEC D519 / CF4 200
Tuning gas 4/line 14: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 3/line 15: C4F6 10 sccm - STEC D519_L / C4F8 10
Tuning gas 2/line 16: O2 10 sccm - STEC D519 / O2 10
Tuning gas 1/line 17:C4F6 10 sccm- STEC D519_L / C4F6 10
ATM, EFEM: 4 Wide EFEM type
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2006 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-ARウェーハとマスクスクラバーは、ウェーハやマスクを洗浄するために設計された最先端の信頼性と使いやすい機械です。広く使われている装置で、粒度の低い高精度ウエハ・マスク洗浄を実現しています。このスクラバーの包括的な洗浄メカニズムは、素早くでも穏やかな方法で粒子汚染や残留化学物質を除去するための振動とスロッシングを特徴としています。このシステムは、革新的な技術と高度なエンジニアリングによって優れた洗浄性能を得るために設計されています。DNS SS-3000-ARは、ウェーハとマスクスクラバーモジュール、スロッシングクイックスクラバー、ケミカルインジェクションモジュール、ウェットスクラバーを含む効率的なクリーニングアーキテクチャで設計されました。ウェーハとマスクスクラバーモジュールは、ボウル、スライダー、ブラシで構成されています。スライダーは、制御された方法で粒子を穏やかかつ穏やかに洗い流すために電動化されています。ブラシは、その繊細な組成を考慮して、ウェーハから汚れやその他の汚れをそっと洗い流します。さらに、ケミカルインジェクションモジュールは、洗浄液をスクラバーボウルの右トラックに正確に注入し、化学消費量を効率的に削減します。その後、ウェットスクラバーは、スクラブ処理が完了した後、さらに汚れと化学溶液を除去します。さらに、このユニットは、脱イオン水、イソプロピルアルコール、希釈塩酸など、さまざまな洗浄液で洗浄することができます。実際の洗浄プロセスは、振動とスロッシング運動の組み合わせから派生しており、スクラブ操作の優れた効果をもたらします。また、粒子径0。3 μ mの分子洗浄も可能です。もう1つの大きな特徴は、スクラバー、振幅、事前スクラブ時間など、クリーニング目的に応じて幅広いパラメータを設定することです。これにより、高精度・高精度で様々な洗浄用途にご使用いただけます。DAINIPPON SS 3000 ARウェーハとマスクスクラバーも使いやすいです。直感的なLCDタッチディスプレイとわかりやすいメニューを搭載しており、機械操作が簡単に行えます。LCDディスプレイは、スクラブの進捗状況と潜在的なエラーについての包括的な理解を提供し、関連するすべての情報を迅速に伝えます。結論として、SS-3000-AR WaferとMask Scrubberは、非常に効率的でユーザーフレンドリーなツールで、ウェーハやマスクを高精度かつ正確に洗浄するように設計されています。クリーニングパラメータを細心の注意を払って調整するとともに、直感的で使いやすい液晶ディスプレイを備えています。包括的な洗浄機構により、より優れた洗浄結果を短時間で提供します。
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