中古 DNS / DAINIPPON SS-3000-AR #293617845 を販売中

ID: 293617845
ヴィンテージ: 2005
Scrubber, 12" Chamber A: Process: Wafer surface clean Vacuum chuck Soft spray N2 10~100NL/min Rinse: DIW / CO2 Injection, resistivity <1 MΩ Spin dry speed: 3000 RPM Chamber B: Process: Wafer surface clean Vacuum chuck Soft spray N2 10~100NL/min Rinse: DIW / CO2 Injection, resistivity <1 MΩ Spin dry speed: 3000 RPM Chamber C: Wafer backside clean Mechanical chuck PVA Burush Rinse: DIW / CO2 Injection, resistivity <1 MΩ 2005 vintage.
DNS/DAINIPPON SS-3000-ARウェーハ&マスクスクラバーは、半導体製造プロセスでウェーハやマスクの表面から粒子を除去するために設計された信頼性の高い高効率洗浄装置です。高度な振動洗浄技術を活用し、ウェーハやマスクの表面から粒子を素早く効率よく洗浄します。DNS SS-3000-ARには2つのスクラビングチャンバーがあり、それぞれに振動クリーニングヘッドが付いています。スクラビングチャンバーは、ウェーハとマスク材料の最大3000mm2を保持できます。スクラビングヘッドは強力なモーターで駆動され、3つの速度に調整可能で、高周波でスクラビングヘッドを振動させます。スクラビングヘッドは、ウェーハ&マスク材の表面とエッジの両方をスクラブし、材料の外側と内側の両方から粒子を除去することができます。スクラビングヘッドは3つのクリーニング速度レベルに調整でき、効率的で徹底的なクリーニングが可能です。このユニットには、各サイクルに適切なスクラブ圧力を確保するための圧力センサーが装備されています。この機械には、材料表面に0。1 μ mの粒子を検出できるハイテク粒子検出器も装備されています。DAINIPPON SS 3000 ARは、極端な温度、ほこり、湿気、衝撃に耐えるように設計された堅牢な構造で構築されています。このツールには、洗浄チャンバーの環境を清潔に保ち、不純物を排除するための効果的な環境制御資産も含まれています。DNS SS 3000 ARは、わかりやすい多言語メニューを備えたユーザーフレンドリーなインターフェースを備えており、迅速かつ簡単なセットアップと操作を可能にします。さらに、外部データロギングモデルを機器に接続することができ、包括的なプロセス制御とトレーサビリティを可能にします。DAINIPPON SS-3000-AR Wafer&Mask Scrubberは効率的で効果的な洗浄ソリューションで、ウェーハやマスクの表面から最小の粒子を除去するように設計されています。堅牢な構造、精密圧力制御、強力なスクラビングヘッドにより、半導体製造プロセスでの使用に最適で、クリーンで信頼性の高い結果を保証します。
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