中古 CRYSTAL COMPLETE INTERFACE / CCI 421 #9235963 を販売中

CRYSTAL COMPLETE INTERFACE/CCI 421は、高精度で超薄型の半導体ウェーハを製造するために設計されたウェーハ研削、ラッピング、研磨装置です。このシステムは、高速で効率的な研削とラッピングを提供し、余分なクランプ治具を必要とせずに、厳しい公差と最大の表面精度を達成します。CCI 421は、大型、複雑、超薄型の基板を研削、ラッピング、研磨するための単一のプラットフォームソリューションを提供します。このユニットには、最高の表面精度と均一性を持つウェーハの生産を可能にする単一の研削、ラッピング、研磨プラットフォームが装備されています。これは、今日の高度な半導体ウェーハの生産に必要な厳しい許容要件に達することができます。また、高いオートメーション性を備えているため、基板プロファイルに基づいて研磨プロセスを自動的に調整することができます。これにより、サイクルタイムを大幅に短縮し、効率を向上させながら、最適かつ一貫したパフォーマンスを保証します。CRYSTAL COMPLETE INTERFACE 421は、研削およびラッピング工程中に基板を確実にクランプする真空テーブルを備えています。また、コンピュータ制御の冷間プラズマイオンツールを備えており、イオン化された空気を使用して基板表面を正確かつ一貫して研削、ラップ、研磨します。工具のダイヤモンド研削ホイールを使用することで、研削とラッピング工程が強化され、工具摩耗を最小限に抑えて最大限の性能を発揮します。このアセットは、大量のウェーハ製造環境で使用するために設計されています。汎用性が高く、厚さ0。2mmから2mmまでの様々な形状の単辺材、両面材を含む幅広い基板に対応できます。このモデルは、ガラスや金属を含むあらゆる材料でも同様の精度と再現性が可能です。421は半導体産業で要求される高精度および大量のウエハの生産のための理想的な解決です。ウェーハの正確かつ再現可能な研削、ラッピング、研磨の自動化ソリューションを提供し、製造メーカはスループットと効率を向上させながらコストを削減することができます。