中古 VEECO Spector #9004435 を販売中

VEECO/DEKTAK Spectorは、フォトニクス、オプトエレクトロニクス、医療インプラント開発、量子デバイス研究の分野でのアプリケーション用に設計されたスパッタリング装置です。金属、絶縁体、半導体の薄膜蒸着により、基板上のナノスケール構造を開発することができます。VEECO Spectorモデルは、VEECOファミリの最新バージョンであり、これまでスパッタリングシステムでは使用できなかった機能と機能を提供します。DEKTAK Spectorには4つの独立したスパッタリングチャンバーがあり、それぞれに個別のプロセス制御と蒸着パラメータがあります。これらのチャンバには独立したプラズマ源が搭載されており、高効率で反復可能な硬磁性材料のスパッタリングが可能です。スペクターには、高度なスパッタ電極ユニットがあり、距離と角度制御の両方に非常に柔軟な調整が可能です。これにより、スパッタされた材料の総エネルギーフラックスと速度を幅広いパラメータで調整することができます。さらに、VEECO/DEKTAK Spectorの基板レベル保護機は、プロセス中に堆積膜が汚染されないようにします。VEECO Spectorの主な特徴は、デュアル磁場ソース構成です。これは本質的に、交互極性を持つ2つの磁石がスパッタリング過程を制御するために使用されることを意味します。これにより、パラメータの範囲をより正確に制御し、偶発的で再現性のある堆積を可能にします。また、標的や基板表面とのイオン衝突による担保損傷を低減し、より耐久性の高いナノスケール構造を作ることができます。DEKTAK Spectorには最先端のチャンバー設計と制御資産もあります。これにより、圧力、温度、時間などのスパッタリング処理中のすべてのパラメータを正確に制御することができます。さらに、Spectorにはパラメータ最適化モデルが組み込まれており、プロセス効率を最大化するためにパラメータを自動的に調整できます。これにより、堆積プロセス中の問題のトラブルシューティングが容易になります。結論として、VEECO/DEKTAK Spectorは、以前は利用できなかった機能と機能を提供する高度なスパッタリング装置です。その二磁場プラズマ源、精密制御パラメータ、パラメータ最適化システムは、蒸着プロセスを非常に正確に制御することができます。これにより、非常に高い性能と極めて耐久性を必要とする様々な用途のナノスケール構造と部品を開発することができます。