中古 VARIAN Chamber for M 2000 #293661352 を販売中

VARIAN Chamber for M 2000は、薄膜成膜用に設計されたスパッタ装置です。これは、高い一貫性と均一性を持つ大面積に堆積することができるR&Dグレードの堆積システムです。このユニットは、金属、誘電体、有機物などのさまざまな材料の堆積に最適です。Chamber for M 2000は、直感的なユーザーインターフェイスによって制御される6インチx 6インチのウェーハカルーセル2個と8インチx 8インチのウェーハカルーセル2個を備えています。機械は、最適な均一性と再現性を確保するために、従来の陰極工具とシールド陰極機構を使用しています。ウエハカルーセルは、スパッタリング動作中のウエハの正確なアライメントと並列性を確保するように設計されています。また、スパッタリング動作時にガス源を導入できるフレキシブルなウェハ真空源ポートも備えています。VARIAN Chamber for M 2000には、モデルのパフォーマンスとユーティリティを最大化するために設計されたユニークなSubSystem 2000コントロールキャビネットも含まれています。この機器には、外部PCからシステムへのリモートアクセスと制御を可能にするソフトウェアパッケージが含まれています。このソフトウェアは、高度な診断とユニットユーティリティも提供しています。M2000用チャンバーは、精密な回転式メカニカルシャッターを使用して、追加の保護マスクを必要とせずにウェーハ表面全体に均一な蒸着速度を提供します。機械にまた速く、有効なクリーニングプロセスのための完全な窒素のパージ機能があります。さらに、このツールはドライエッチングオプションと高解像度のシーム検出を備えており、効率的な品質管理プロセスを実現しています。VARIAN Chamber for M 2000には、正確な制御と監視機能を備えた高出力RF電源も含まれています。また、さまざまなフィルムを提示するためのスパッタイオン源も幅広く提供しています。最後に、両面成膜、調整可能な圧力検出器、安全性と効率的な操作のためのアクリル製の安全窓などの他の機能も含まれています。結論として、Chamber for M 2000は、高忠実性と再現性を備えた薄膜を効率的に堆積させるために設計された先進的なR&Dグレードのスパッタリング資産です。また、SubSystem 2000制御キャビネット、精密回転式メカニカルシャッター、高出力RF電源などの追加機能も搭載し、最適な性能を実現しています。