中古 VARIAN 3290 #9245003 を販売中
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販売された
ID: 9245003
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1998
Sputtering system, 6"
Dual cassette loader
6000 Micron long lift heater
With digital heater controller
(3) Quantum sources per station
With (3) 12kW CPI power supplies, P/N: 04-716796-01
Cassette motor controller
Multi gauge controller
(2) MKS 250B Gas controllers
CTI On-board cryopump
CTI 8200 Compressor
(2) Process shields
Turbo load lock option
Chiller
(2) Metal cassette
RF-10S Generator and Etch option
VIPS Option
Target remove tool
Chamber wall shield remove tool
1988 vintage.
VARIAN 3290は、VARIAN Semiconductorによって設計された最先端のスパッタリング装置です。マイクロエレクトロニクス業界向けの高品質な材料を生産することができます。3290は、真空環境で半導体ウェーハ上に薄膜の材料を堆積するように設計されています。単一またはデュアルスパッタリング源、可変電源、イオンエッチング源、および高真空ポンピングシステムを備えており、包括的な真空プロセスソリューションを提供します。VARIAN 3290は、電子サイクロトロン共鳴(ECR)を利用して、材料の高率均一な蒸着を実現しています。ECR法により、堆積物のレート、厚さ、均一性を制御し、パフォーマンスを向上させることができます。このユニットはまた、乾式および湿式プロセスを提供し、湿式プロセスはいくつかのプラズマエッチングで構成され、材料上に高解像度の層を作成します。3290には、内蔵のハードウェア監視機、真空ゲージポート、および調整可能な高さプラットフォームなど、安全性と利便性のためのいくつかの機能があります。さらに、VARIAN 3290には、プロセス関連の問題をリアルタイムで識別およびトラブルシューティングするために使用できる自動プロセス制御ツールが含まれています。オペレータは、レート、蒸着時間、蒸着厚などの各ジョブのプロセスパラメータをカスタマイズして、可能な限り最良の結果を得ることができます。3290は、堆積物のレートと均一性を比類のない制御を提供する信頼性と費用対効果の高いスパッタリング資産です。安全性と利便性のためにいくつかの機能があり、高度に自動化されたプロセス制御モデルにより、プロセス関連の問題を簡単にトラブルシューティングできます。VARIAN 3290は、半導体ウェーハ上に高品質の蒸着を行うために設計されており、マイクロエレクトロニクス業界でより高い歩留まりと性能向上を実現しています。
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