中古 VARIAN 3290 STQ #9154643 を販売中

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ID: 9154643
ウェーハサイズ: 6"
Sputtering system, 6" Entity target configuration: Process station #2: ALSICU Process station cathode configuration: Station #2: Quantum (Rotating magnet) Heater configuration: Heater type (All station): DC BIAS Heater controller (All station): (1) Eurotherm 808, (2) Eurotherm 3508 Power supply configuration: Outer PSU station #2: AE PINNACLE 12 KW Outer PSU station #3: AE PINNACLE 12 KW Outer PSU station #4: AE PINNACLE 12 KW System vacuum configuration: Compressor: Model 9600 8R Cryo pump: Yes Water pump: No Software configuration: User's guide: ECS 3000 Version: 96.204.10U1 Floppy drive: 3.5" Double cassette loading: Yes.
VARIAN 3290 STQスパッタリング装置は、高度なプロセス能力を提供する高度な蒸着システムです。それはさまざまな適用のための最も厳密な条件を満たすために信頼でき、反復可能な性能および良質の薄膜を提供するように設計されています。このユニットには、堅牢で多価なチャンバー、直感的で柔軟なソフトウェアインターフェース、さまざまなスパッタリングターゲットと基板が装備されています。VARIAN 3290STQのチャンバーは、蒸着プロセスを制御するために使用され、高い再現性と精度を実現しながら、優れたプロセス制御と信頼性を提供するように設計されています。このチャンバーはベルジャーコンフィギュレーションを備えており、堆積領域への優れたアクセスを提供し、迅速な基板の積み下ろしを可能にします。マグネトロンまたはダイオードスパッタリング源のいずれかを選択して、さまざまな金属の薄膜を堆積させることができます。さらに、ウェーハ、基板、その他の不規則な形状など、幅広い基板サイズや形状を機械に使用することができます。3290 STQの堅牢なソフトウェアインターフェイスは、堆積プロセスを簡単かつ直感的に制御できるように設計されています。材料パラメータ、電源設定、堆積プロセスに関連するその他のパラメータなど、ツールの最適化のすべての側面は、特定の要件を満たすように構成することができます。このアセットには、最適化プロセスを簡素化し、一貫した結果を保証する自動レシピスクリプティングも備えています。独自の適応型プロセス制御アルゴリズムもモデルに含まれており、より高いレベルのプロセス制御を提供し、プロセス変動を低減します。この装置はまた、ランピング機能を備えており、反応プロセスを監視しながら、低消費電力から高出力までの段階的な蒸着アプローチを可能にします。3290STQシステムには、最も要求の厳しい要件を満たすために、さまざまなスパッタリングターゲットと基板が付属しています。VARIANは、寿命保証の有無にかかわらず、標準またはカスタムの高純度、高密度ターゲットの選択を提供することができます。基板には、石英、セラミック、サファイアウエハなど、特殊な性能を必要とする用途向けの基板があります。全体として、VARIAN 3290 STQは高度なスパッタリングシステム機能と機能を提供し、信頼性の高い再現性の高い性能と高品質の薄膜を提供します。直感的なインターフェイスと幅広いスパッタリングターゲットと基板により、プロセスの変動を制御しながらプロセスの最適化を実現します。
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