中古 VARIAN 3190 #9132592 を販売中

VARIAN 3190スパッタリング装置は、様々な材料上の無機コーティングの物理蒸着（PVD）に使用される高度な実験装置です。このシステムは、低圧雰囲気を作り出すために使用される真空チャンバーとスパッタリング用のオープンプロセスチャンバーを備えています。また、高出力の無線周波数（RF）ジェネレータ、さまざまなプロセスおよびインストールアクセサリ、および使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）も含まれています。3190は一貫したスパッタリングの沈着率および優秀な信頼性を提供するように設計されています。VARIAN 3190スパッタリングユニットは、高品質のスパッタリング蒸着速度を提供するシンプルな実験装置です。このマシンは、ターゲットを高温に加熱し、RFエネルギーを使用してチャンバー内に直流を作成することによって動作します。この電流は、ターゲットからの固体材料とプロセスで放出されたガスの両方を蒸発させます。これらの材料の原子は電場を通って基板材料に移動し、急速に堆積します。3190には理想的なスパッタリングツールになるいくつかの機能があります。まず、オープンプロセスのチャンバー設計により、さまざまな厚さの異なる材料を柔軟に加工できます。第二に、このアセットにはコンピュータ制御のプロセス制御モデルがあり、ユーザーは装置の圧力、温度、蒸着速度を正確に監視および調整することができます。第三に、基材に優れた機械的安定性と均一な厚さのコーティングを提供する高出力RF発電機を搭載しています。VARIAN 3190は、金属、絶縁体、半導体フィルムなど、さまざまなスパッタリング用途にも適しています。このユニットは、さまざまなアプリケーションに一貫したスパッタリングレートを提供するように設計されています。この柔軟性により、ユーザーは継続的に堆積率を調整して、コーティングの所望の厚さと品質を達成することができます。さらに、プロセス制御の精度は、結果の一貫した再現性を可能にします。全体的に、3190スパッタリングマシンは、優れたスパッタリング成膜速度と柔軟性を提供します。そのオープンプロセスチャンバー設計、コンピュータ制御プロセス制御ツール、および高出力RFジェネレータは、さまざまなアプリケーションに最適なソリューションです。このアセットは使いやすく、一貫した沈着速度と結果の再現性により、多くのスパッタリング沈着実験において信頼性の高い選択肢となります。