中古 VARIAN 3190 #9112440 を販売中

VARIAN 3190は高性能スパッタリング装置で、高精度な試験膜をあらゆる生産速度で超クリーンで高効率で制御可能な成膜を提供するように設計されています。これは、優れた基材カバレッジと高い沈着率のためにスパッタ可能な材料の3つのソースを利用しています。このシステムは、3相の電源によって駆動される低エネルギー、高速パルス放電を中心に設計されています。この構成により、基板表面全体における材料の均一な蒸着と非常に迅速なスパッタ時間が可能になり、蒸着速度が大幅に向上し、代替システムでは予想よりもクリーンな表面が生成されます。3190には完全に設定可能なインターフェイスがあり、蒸発速度、膜厚、温度、圧力、パルス周波数、およびその他のパラメータを正確に制御できます。そのモジュラー構造は容易な単位の統合および速い用具の転換のために設計されています。既存のレガシーコントローラ設計と統合することもできます。VARIAN 3190は、複数のターゲットにわたって熱管理と均一な蒸着によるフルプロセスオートメーションを備えています。また、オプションのスパッタソースを提供して、導電性、半導体、保護フィルム層などのカスタムフィルムの組み合わせを提供します。3190は、磁気ディスク、銅合金ターゲット、超微細な金属ターゲットなどの大規模なターゲット選択を持っています。その結果、機械は、所望の材料組成物だけでなく、生産率のために最適化することができます。独自のメッキ技術により、ポンプ過剰による損失を低減し、均一性を向上させ、コストを削減します。このツールは、金属酸化物や窒化物などの誘電性および光学コーティングの製造にも適しています。VARIAN 3190は、優れた膜均一性、高い成膜率、超高純度、優れた表面品質を必要とするアプリケーションに適しています。その多機能設計は、生産要件を満たすために最大限のコスト削減と柔軟性を提供し、その機械加工部品は一貫した性能と信頼性を保証します。3190は、高精度の研究プロジェクトから大規模商業運用まで、さまざまな用途でのスパッタリングニーズに最適なソリューションです。