中古 VARIAN 3190 #9056309 を販売中

VARIAN 3190装置は、電子、医療、光学などの幅広い用途のために、さまざまな基板に薄膜を高精度に蒸着するために設計された高度な超高真空スパッタリングシステムです。このスパッタリングユニットは、イオン源、電源、高真空室、ロータリーフィードスルー、インストルメントパネルなど、多くの部品を使用しています。3190のイオン源は、無線周波数（RF）プラズマ発生器です。基板温度の広い範囲にわたってイオン化されたプラズマを生成することができ、均一な成膜を保証するのに役立ちます。RFのプラズマ発電機にまた必要に応じてプラズマの強度および均等性を調節できる自動電源制御があります。機械の電源は一貫した結果のための精密な電源制御および電圧調整を提供します。使用する基板ごとに正確なパワーレベルと電圧を設定できます。また、アークセンシングと焼成保護機能を備えており、工具部品の損傷を防ぎます。高真空チャンバーは、蒸着プロセスに漏れにくい環境を提供するように設計されたステンレス製のチャンバーです。チャンバーの2つの半分を密閉する2つの高精度ガスケットを備えており、薄膜蒸着の真空環境を確保しています。温度範囲は-67°F〜662°Fで、幅広い用途に対応しています。ロータリーフィードスルーは、真空を開けずにチャンバに基板を導入する手段を提供します。これにより、チャンバーへの汚染を低減し、均一な成膜を確保するのに役立ちます。送りは容易なアクセスのための部屋の底に組み込まれています。インストゥルメントパネルはチャンバの側面にあり、プロセスパラメータのユーザー読み出しとコントロールを提供します。また、チャンバー内の圧力を監視するための真空ゲージも含まれています。全体的に、VARIAN 3190は、精密で均一な薄膜コーティングを生成するように設計された強力で高精度なスパッタリング資産です。パワーと温度の設定の広い範囲を持っているだけでなく、統合されたロータリーフィードスルーとインストゥルメントパネル。これにより、さまざまなアプリケーションに最適です。