中古 VARIAN 3180 #83197 を販売中

VARIAN 3180は、フィルム成膜、コーティング、表面処理など、さまざまな用途向けに設計されたマルチターゲットDCマグネトロンスパッタリング装置です。このスパッタリングシステムは、磁場を使用して、基板上に薄膜を堆積させるために使用されるエネルギーイオンを作成します。このユニットは、最先端の制御ソフトウェアとハードウェアを備えており、正確で反復可能なプロセス結果を提供できます。3180は、統合された、低保守の二重プラズマイオン源を備えています。これは、従来のプラズマ源よりも多くの利点を持っています。特徴はまた達成されるフィルムの良質が一貫した、反復可能であることを保障します。DCマグネトロンスパッタリングマシンには、統合された堅牢なハイレート電源が搭載されているため、市販の他のシステムよりも高い蒸着速度を実現できます。これにより、プロセスのサイクル時間が短縮され、プロセスの再現性が向上します。このツールは、特定の材料特性の要件を満たすように設計されたさまざまなスパッタリングターゲットを提供します。ターゲットは耐久性があり、長期的な信頼性と性能を提供するように設計されています。このアセットには、引き込み式のカーボンおよびグラファイト陰極もあり、幅広い基材をモデルに使用し、優れた品質の結果を提供することができます。VARIAN 3180は、VARIAN マルチターゲットDCマグネトロンスパッタリング装置保証にも裏付けられており、正常な使用中に故障した場合にシステムのコンポーネントを保護します。この保証は単位のサイズおよび特徴のレベルに基づいて計算されるわずかな料金の費用で来ます。3180の制御ソフトウェアはユーザーのカスタマイズのための選択の広い範囲を提供します。ユーザーはマシン設定をカスタマイズして、ターゲットのサイズ、形状、位置、位置、および現在の設定とバイアス設定を制御できます。また、カスタムレシピやプログラムを作成できるため、ユーザーは処理条件を迅速かつ正確に複製することができます。全体として、VARIAN 3180は、高品質で費用対効果の高い信頼性の高いスパッタリングツールをユーザーに提供します。デュオプラズマイオン源、堅牢なハイレート電源、および幅広いスパッタリングターゲットにより、薄膜の材料を優れた再現性を持つ幅広い基板に堆積させることができ、制御ソフトウェアとハードウェアはユーザーに豊富なユーザーコントロールオプションを提供します。この資産は、VARIAN マルチターゲットDCマグネトロンスパッタリングモデル保証によって裏付けられており、通常の動作中に損傷が発生した場合にコンポーネントがカバーされることを保証します。