中古 VARIAN 3180 #30959 を販売中

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製造業者
VARIAN
モデル
3180
ID: 30959
ウェーハサイズ: 4"
magnetron sputtering system configured for 4" wafers, System is fully automated, cassette-to-cassette, and has high throughput, Equipped with 3 targets and an RF-sputter etch module for in-situ substrate cleaning prior to sputtering, as-is.
VARIAN 3180スパッタリング装置は、最適な薄膜成膜能力を提供するように設計された高度で高性能なスパッタリングシステムです。電子ビーム蒸発源、RF電源、不活性ガス、クライオポンプ機を使用しています。電子ビーム源は、最大4kWの電力で必要な純度の金属および誘電材料を蒸発させるために使用されます。8 「x8」 x8「のワーキングエリアと7」の直径ビーム絞りを備えた真空チャンバーを備えています。このソースは、最大8「ピッチ2」の直径の基板に材料を堆積することができます。RF電源は、3180でスパッタリング用に最大1000ワットの電力を生成します。RFソースは周波数とパワーレベルで調整可能で、スパッタリングプロセスを非常に正確に制御できます。これにより、材料の蒸着時間が短縮され、蒸着速度が向上し、スループットが向上します。VARIAN 3180には、作業エリアで安定した雰囲気を提供できる不活性ガスツールも含まれています。これには、0。1から5 Torrの間の圧力での窒素とアルゴンの両方が含まれます。スパッタリングしながらチャンバー内の高純度な雰囲気を維持し、堆積物の酸化を防ぐために使用されます。3180はまた、スパッタリング中に生成された分子や粒子をアウトガス捕捉するクライオポンピングモデルを備えています。これは、堆積の精度に影響を与える汚染元素なしで、堆積が可能な限り最高の品質であることを保証するのに役立ちます。全体として、VARIAN 3180は高度で高性能なスパッタリング装置です。強力な電子ビームおよびRF源の範囲、ならびに不活性ガスおよびクライオポンピングシステムを通じて、最適な薄膜蒸着能力を提供します。このシステムは、高いスループットレートで高品質の堆積物を生成することができるため、幅広い薄膜用途に最適です。
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