中古 UNAXIS Clusterline 200 #9273683 を販売中

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UNAXIS Clusterline 200
販売された
ID: 9273683
ウェーハサイズ: 4"
ヴィンテージ: 2006
Sputtering system, 4" Chamber included 2006 vintage.
UNAXIS Clusterline 200は、さまざまな種類の材料をコーティングするための汎用性の高いプラットフォームをユーザーに提供する高性能スパッタリング装置です。このシステムには、2つの独立した150 mmクラスタカセットが装備されており、追加の再設計なしで、異なる材料を同時または別の基板に堆積させることができます。さらに、300mm×300mmのロードロックにより、高スループットのスパッタリングが可能です。Clusterline 200は、高い蒸着速度と短いサイクル時間により、多くの薄膜アプリケーションに最適です。パワフルなマグネトロン型電源を搭載し、最大8kWの発電が可能です。このパワーはスパッタ成膜のために正確かつ正確に制御することができ、均質なコーティング結果を得ることができます。さらに、2つのカセットには独自の平面式リニアマグネット設計が採用されており、磁場を拡散させて均一な蒸着と放射状の均一性を実現しています。適用範囲が広い沈殿物のために、機械は一度に4つまでのスパッタ源を収容できるモジュラープロセス部屋が装備されています。この設計により、ユーザーは単一のアプリケーション内で金属、セラミックス、複合材料を切り替えることができます。さらに、ユニットの高度なシールド設計とパルスDCMAG負荷、スパッタ密度を制御し、充電を最小限に抑えます。このユニットはまた、高速スパッタリングプロセスのための高度な冷却ツールを提供しています。この冷却資産には2つの独立した循環ポンプが含まれており、効率的な熱管理とモデル全体の優れた温度と均一性を提供します。さらに、このユニットのマルチゾーンエンドシフトテーブル電源は、各ソースに独立した調整可能な電圧を提供することにより、スパッタリングの均一性を高めます。最後に、UNAXIS Clusterline 200は、シールドされたウィンドウ、統合されたインターロック、カスタムエラー検出およびレポートなどの高度な安全設計を提供します。これらの安全機能により、機器の信頼性と安全な動作の維持が保証されます。要約すると、Clusterline 200は、高速蒸着時間と優れたコーティング品質を必要とするスパッタリング用途に理想的な強力で汎用性の高いスパッタリングシステムを提供します。高レートスパッタリング、高度なシールドとマグネット設計のための高度な冷却機、および正確な電力制御のための強力なマグネトロンベースの電源を提供しています。コンパクトでフレキシブルなプロセスチャンバーにより、ユーザーは1つのアプリケーションでさまざまな種類の材料で均質なコーティング結果を得ることができます。
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