中古 UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9275953 を販売中
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ID: 9275953
ヴィンテージ: 2001
Sputtering system
Standard layout
RF Sputter (14 CM)
Includes:
TRIVAC D66B Rough pump
CTI 8F Cryo HV pump
POLYCOLD PFC400LT
Vent valves: VAP026-A
HV Valves:
VAT 014 2-Point
VAT 064 Servo
Heater:
LC Degas
MC Degas
Signal tower
UPS Power supply
Substrates:
Manual handling
Front side load pins
(12) Substrate sizes
Gases:
Ar / 200 scc
O2 / 100 scc
Ar / 60 scc
N2 / 100 scc
Damaged parts:
Pinnacle power 12 kW
RF Power 1.6 kW
Cryo pump 8F
Handling system removed
Power supply: 3 x 400 VAC, 50/60 Hz, 3 LNPE, 49kVA
2001 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS EVOは、TiまたはTiNフィルムの成膜用に特別に設計された薄膜コーティングに使用されるスパッタリング装置です。スパッタリングシステムは、3軸モーションコントロールと2つのスパッタリングソースモジュールで構成されています。スパッタリングユニットは、0。1 ± mの高精度で最大200mmのX軸とY軸の動きμ実行します。3軸目(Z軸)の動きは、エレベーター機によって提供されます。すべての座標は中央コントローラによって管理され、プロセスシーケンスもサポートされます。スパッタリングツールは、6つの独立したプロセスチャンバーを備えた2組のスパッタリングソースを備えています。各スパッタリングソースモジュールには、最新の2つのマグネトロンスパッタリング源、高精度プロセス電源、スパッタリングプロセスを管理するコントロールユニットが装備されています。薄膜材料の種類に応じて、スパッタリングチャンバーに最大1kVピークの電力定格が提供されます。スパッタリング資産は、最適な薄膜結果を達成するための可変ドーピングプロセスパラメータを持つすべての材料を処理することができます。UNAXIS LLS EVOは、処理中にスパッタリングチャンバー内のプロセスパラメータを積極的に監視します。スパッタリング時間、スパッタリング電力、またはガスフローなどの異なるプロセスパラメータは、モデル全体または個々のスパッタリング源に対してプログラムすることができます。スパッタプロセスは、統合されたデータロギング装置を使用してリアルタイムで監視できます。これにより、製造プロセス全体にわたって高品質の薄膜蒸着プロセスが維持されます。統合されたガスシステムは、スパッタリング源に反応性ガスを効率的に供給します。ガスの流れと圧力は正確に調整され、望ましい蒸着プロセスを作り出します。ガスユニットには、手動および自動フロー制御、および予めプログラムされた漏れ検出およびアラームが装備されており、安定した信頼性の高い動作を保証します。BALZERS LLS EVOスパッタリングマシンは、薄膜の精密な成膜を行うことができる高度なスパッタリングツールです。統合されたデータロギング資産、高精度のプロセス電源、特別に設計されたモーションコントロールにより、あらゆる材料の沈着において最高の結果を得ることができます。
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