中古 UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9167778 を販売中

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ID: 9167778
ウェーハサイズ: 5"
ヴィンテージ: 1999
Sputtering system, 5" (3) Targets: NiCr, NiFe, CoNiFe Currently warehoused 1999 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS EVOは、薄膜の成膜用に設計された強力なスパッタリング装置です。具体的には、アルミニウム、クロム、銅、チタンなど、さまざまな金属膜に高度な成膜能力を提供します。UNAXIS LLS EVOは、ユーザーの個々のニーズに合わせたモジュラーシステムです。これは、線形マグネトロン源に基づいており、独自のin-situプラズマ監視およびプラズマ制御機能を備えています。このユニットには、8 x 10-7 mbar以下のベースプレッシャーをサポートできる真空チャンバーが装備されています。また、ガスシャワー装置も備えており、反応ガス環境下での作業が可能です。BALZERS LLS EVOは、ガス圧力、温度、および資産のPlを遠隔操作することができ、ITO、 PEN、およびシリコーンを含む様々な基板に堆積することができます。また、アルミニウムやクロムなどの多元素源や、チタンや銅などのモノリシックソースなど、さまざまな陰極源も提供しています。LLS EVOは、基板温度、基圧、システムTMS (Target Material Supplied)、および蒸着速度などの蒸着パラメータのリアルタイム情報を提供するin-situプラズマ監視装置を備えています。この機能により、堆積プロセスを目標とした方法で最適化することができます。このユニットは、直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスとタッチスクリーン機能を備えた、パワフルで人間工学に基づいたユーザーインターフェイスも提供しています。これにより、ユーザーは機械をリモートで制御して堆積プロセスを効果的に管理することができます。UNAXIS/BALZERS LLS EVOは、伊藤、PEN、シリコーンなど、さまざまなフィルム用途に適しています。これは、超薄膜の堆積を容易にする優れたベースプレッシャーを提供します。さらに、このツールは、最適な基板温度を維持するのに役立つ高度な冷却技術を備えています。このアセットはまた、高度なプロセス制御を提供し、ユーザーが堆積プロセスを効果的に管理できるようにします。UNAXIS LLS EVOは、薄膜の成膜に優れたスパッタリングモデルです。
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