中古 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9214650 を販売中
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販売された
ID: 9214650
ヴィンテージ: 1996
Sputtering system
Environmental conditions:
Out of operation:
Temperature: 10-50°C
Relative humidity: 30-80%
During operation:
Temperature: 18-30°C
Relative humidity: 40-60%
Facilities requirement:
Argon-process: 0.5-1.0 Bar
CDA: 6-8 Bar / 87-116 PSI
N2 Vent: 1.5-2.5 Bar / 21.7-29.0 PSI
N2 Regen (Purge): 1.5-2.5 Bar / 21.7-36.3 PSI
PCW:
Inlet pressure: 4-7 Bar / 58-101 PSI
Outlet pressure: <0.5 Bar
Temperature: 15-25°C
(2) CTI On-Board 8F Cryo pumps
POLYCOLD (Meissener) PFC-400LT Chiller
Temperature range: -120°C to -150°C
Power supply: 415 V
Max full load amp: 8.00 A
PFEIFFER DUO 65 Mechanical pump
PFEIFFER DUO 035D Mechanical pump
(2) Pinnacle power supplies
Output power: 15 kW
IONTECH MPS-5001 Beam current controller
MSU 200 (A 250.1) Power distribution unit
Magnetron (Target-cathode): Ti, Al, Cu, GE, AU
Unit mass flow controller (UFC):
MFC 1: 50cc Ar
MFC 2: 20cc Ar
Chambers:
Load lock chamber (LC): Argon cleaning chamber
Main chamber (MC): Deposition chamber
Vacuum state:
Current MC base pressure: 1.70E-08
Current LC base pressure: 9.30E-08
Current MC ROR: 7.30E-07
Current LC ROR: 1.10E-07
Electrical power:
Supply voltage: 3 x 400 / 230 V (3L + N + PE)
Supply frequency: 50 Hz and 60 Hz
Main ground: <2 Ohm
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502は、さまざまな薄膜用途向けに設計されたスパッタリング装置です。このシステムは、直径5インチのターゲットホルダー、6インチのカソード、および効率的な基板の積み下ろしのためのロードロックユニットを備えています。最大基板サイズは6 「x 4。75」です。機械は高い均等性および低い血しょう非均一性の360ワットの最高の血しょう力で動きます。ロードロックツールは、圧力、温度、速度を継続的に監視し、正確なサンプルの読み込みとアンロードを行います。ターゲット操作アセットは、高精度なターゲット制御を提供し、最大限のターゲット使用を可能にします。モデルのPECVDモジュールは、幅広いプロセスパラメータを提供します。プロセスチャンバーは、光学的にアクセス可能なビューポートを備えたシングルピースベルジャーを備えています。これは、低温から中温の広い範囲で正確なチャンバー温度、圧力、およびガスを維持することができます。また、薄膜と厚膜の両方を処理できるスパッタモジュールを備えています。3ゾーンのプロセスチャンバー、3インチの内径ステンレス製の円筒型真空チャンバー、4ゾーンのマグネトロン、3ゾーンの高速停止動作システムを備えています。スパッタされたフィルムの均一性と均質性は、磁場プロファイル制御を提供し、6インチまでの基板の均一なスパッタリングを可能にする磁化ユニットで達成することができます。このマシンのプロセス制御は、シームレスなツール統合のために設計されたWindowsベースのオペレータインターフェイスを備えています。これは、インターネット接続でどこからでもモデルにアクセスできる安全なリモートアクセスアセットを備えています。また、バッチレシピ、複数のプロセスプロファイル、可変電源制御などの強力なプロセス制御機能も備えています。全体的に、UNAXIS LLS 502は、幅広い薄膜用途に適した高精度スパッタリングシステムです。直径5インチのターゲットホルダー、6インチのカソード、および効率的な基板の積み下ろしのためのロードロックユニットを備えています。PECVD、スパッタ、プロセス制御モジュールは、さまざまな薄膜アプリケーションに幅広い処理能力を提供します。
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