中古 ULVAC Zi-1000N #9156833 を販売中

アルバックZi-1000Nスパッタ装置は、薄膜成膜用の汎用性の高い高性能ツールです。超高真空（UHV）条件を生成し、10-6 Torr未満の圧力で動作することができます。パワフルなDC電源を搭載し、高速でスパッタ蒸着が可能です。また、直径1000 mm/39。37インチの大容量チャンバーと最大高さ600 mm/23。62インチの大容量チャンバーを備えており、最大4インチウェーハまでの大型基板に簡単に対応できます。Zi-1000Nは複数の構成の高い発電DCのスパッタリングガンを利用します。広い面積に均一な堆積を提供する2つのアークユニットでユニークに設計されています。スパッタガンは、より低い電力パラメータでのアークを最小限に抑えるように設計されています。これにより、低〜中電力の蒸着が必要なアプリケーションに最適です。ULVAC Zi-1000Nは、複数の薄膜成膜プロセスを実行することができます。一体型の暖房機を搭載し、300°Cまでの温度に対応可能です。このツールは、化学蒸着（CVD）およびプラズマ強化化学蒸着（PECVD）も実行できます。また、基板処理の精度と速度を向上させる精密ロボットアームを採用しています。これにより、正確なプロセス制御と再現可能な結果が得られます。Zi-1000Nには、ベースプレート中心の大径DCスパッタリング源と基板の全面積をカバーするヒーター素子も含まれています。これにより、複数の基板を同時にコーティングするのに最適です。ULVAC Zi-1000Nは、信頼性が高く、一貫性があり、再現性のある薄膜蒸着を提供します。維持することは容易、ユーザーフレンドリーです。スパッタリングモデルは、透明なチャンバーとタッチスクリーンパネルを備えた洗練されたモダンな外観で、明確な視認性と簡単な操作を実現しています。高度なスパッタ成膜機能と使いやすい制御装置により、薄膜成膜ニーズZi-1000N最適なソリューションです。