中古 ULVAC Z-1200 #293610444 を販売中

ULVAC Z-1200は、高度な薄膜蒸着に使用される高精度スパッタリング装置です。それは沈着率およびフィルムの均等性の優秀な制御のために設計されています。誘導結合プラズマ（ICP）や直流（DC）スパッタリングなど、幅広い物理蒸着分野を提供しています。高度な超高真空（UHV）技術により、高品質の薄膜成膜を実現します。Z-1200にはアルバック直流電源を搭載しており、低アークで高度なDC出力特性を発揮し、高精度な成膜を可能にします。この電源は最大1000Wの発電が可能で、高いコンプライアンス性を持つコーティングが可能です。電源は、最大1000°Cの温度制御も備えており、リモコンで操作することができます。さらに、ULVAC Z-1200には真空ゲージモジュールが装備されており、チャンバー内でのゲージ配置と移動が可能です。Z-1200は複数のスパッタリング源が装備されています、ユーザーが完璧な薄膜堆積を作成するために複数の反応プロセスを持つことができます。DCスパッタリングに加えて、イオン化スパッタリングと非イオン化スパッタリングの両方、金属とセラミック蒸着、および優れた蒸着速度と膜均一制御のための正確に制御された磁気機能を備えています。ユニットは、メインチャンバーとサブチャンバーの2つの主要コンポーネントで構成されています。主要な部屋は3 × 10-10 torrの基盤圧力のUHVを可能にします。内部には、複数のスパッタリング源を可能にする回転ターンテーブルがあります。サブチャンバーは、プラズマが生成され、生成される場所です。この設計により、ULVAC Z-1200はプラズマ発生のために異なるガスを混合することができます。Z-1200には、2つの熱拡散ポンプとセラミックヒーターのオプションによる暖房機能もあります。冷却されたプロセス制御はまた機械で特色にされ、正確で、有効な温度調整を可能にします。さらに、このツールは変形ミラーとデポジットイオナイザー（DMI/DMAI）を備えているため、原子的にコンフォーマルな堆積に最適です。ULVAC Z-1200は強力で汎用性の高いスパッタリングアセットで、複数の物理蒸着分野で高度な薄膜蒸着を提供します。このモデルは、高精度部品で構成されており、成膜速度と膜均一性の制御に優れているほか、高度に準拠したコーティングのための高度なUHV技術を提供しています。この強力な装置は、薄膜堆積物に最大限の精度を必要とする研究開発ラボに最適です。