中古 ULVAC SIV-200S #293637679 を販売中

アルバックSIV-200Sは、高度な半導体デバイスの研究開発のために設計されたシングルチャンバーDCマグネトロンスパッタリングシステムです。この装置は、ガラス、セラミックス、その他の材料を含む基板材料の範囲にわたって、最大5°/秒の蒸着速度で高性能の薄膜を製造することができます。SIV-200Sは、高性能材料の堆積のための分子ビームラインを内蔵した高効率ガス供給を特徴としています。デュアルエンドマグネトロンスパッタリング構成は、最大4つのカソードと2つのアノードをサポートし、サンプル沈着の柔軟性を高めます。さらに、独立した線形可変差動変圧器（LVDT）を使用することで、各カソードの線形バイアスを個別に制御することができます。この機能は、基材の均一性を向上させ、充電効果を低減するために使用できます。このシステムの炉モジュールには、さまざまな高温加熱オーブン（HOT）とホットプレートが装備されており、温度に敏感な材料にコーティングするのに適しています。ホットプレートの温度範囲は最大1000°Cで、オプションの熱電対アタッチメントにより高精度な温度監視が可能です。単位はエッチングおよび沈殿プロセスの間のイオン砲撃の頻度、大きさおよび持続期間を制御するための高度RFの発電機を含んでいます。ULVAC SIV-200Sはさまざまな実験に非常に適応可能であり、フルファンクションコントロールソフトウェアスイートでさまざまな機能を調整できます。これには、複数のタスクをプログラムしたり、最大4つのウエハでサンプル分析をリアルタイムで監視したり、特定の薄膜仕様のレシピから選択できます。全体として、SIV-200Sは、高度な半導体の研究開発の要件を満たすように設計された信頼性の高い、使いやすいマシンです。このツールは、個々の陰極制御および可変周波数RFソースをサポートする能力を備えているため、優れたフィルム均一性、低充電、および高い沈着率など、さまざまな薄膜効果を生成できます。