中古 ULVAC Entron N300 #9314071 を販売中

ULVAC Entron N300スパッタ装置は、世界中のハイテクノロジー向けの薄膜を製造するための信頼性が高く効率的なツールです。Entron N300は、特許取得済みのETES法を使用して、U-NiからAuGeなどのさまざまな材料のフィルムを堆積させることができ、高い均一性とプロセス再現性を維持します。ULVAC Entron N300は、使いやすい操作システムと直感的なソフトウェアインターフェースにより、膜厚と組成を正確に制御できます。また、2つの主要なスパッタ源を独立して制御できるため、多層蒸着プロセスに最適です。直径300mmのエンドホールマグネトロン源を搭載し、ターボコア、高性能メカニカルポンプ、高効率プラズマ発生器を備えています。この構成により、総排出量を最小限に抑えながら、均一な蒸着の高い均一性と効率を実現します。Entron N300は、TFT液晶、FPD、および関連市場向けに設計されており、300mmウエハサイズ全体で± 0。1マイクロメートル以上の基板均一性を実現しています。ULVAC Entron N300は、高精度プラズマ生成機であるため、透過率や反射率などの幅広い光学特性を持つフィルムを堆積することができます。さらに、Entron N300は、構成的または構造的欠陥を最小限に抑えた高品質のフィルムを提供します。独自のUltra High Power Modeは、膜厚の均一性を損なうことなく、蒸着速度を最大3Xに向上させます。安定したプラズマ環境により、蒸着運動を正確に制御することができます。最後に、ULVAC Entron N300は、スパッタリングプロセスエンジニアリングにおけるULVACの豊富な知識と経験に裏打ちされています。すべてのコンポーネントは、メンテナンスを最小限に抑えながら、信頼性が高く効率的であると専門家によって認識されています。これにより、Entron N300は、均一な薄膜の製造を可能にするため、研究開発および産業プロセスにとって理想的な選択肢となります。