中古 ULVAC Entron EX #293597098 を販売中

ULVAC Entron EX
ID: 293597098
Sputtering system.
ULVAC Entron EXは、薄膜やナノ材料の成膜に使用されるスパッタ装置です。それは信頼でき、一貫した結果を提供する高級な、高精度の装置です。このシステムには、蒸着室、電源、および回転マグネトロンスパッタガンが含まれています。ULVAC ENTRON-EXは、140Wの最大火力を有し、ユーザーは市場の他のスパッタリングシステムよりも高い温度でこの材料を堆積することができます。このユニットは、金属、半導体、誘電体、およびその他の材料を含む幅広いソース材料からスパッタリングすることができます。セラミックターゲットは、コーティングの優れた接着性と寿命のための高温および高熱伝導性を備えています。Entron EXは、ナノインプリントリソグラフィ、真空蒸着、物理蒸着(PVD)、反応性スパッタリング、機能的で高性能なコーティングのためのイオンメッキなど、薄膜蒸着およびナノ材料製造の分野で様々な用途に使用できます。また、精密なスパッタリング制御と、均一性と厚さの制御を強化した高精度コーティングを提供します。また、幅広いプロセスパラメータを有し、基板サイズや形状も豊富で汎用性に優れています。ENTRON-EXはDC平面スパッターガンを採用しており、様々な硬質基板に均一な成膜を実現しています。このツールは、ユーザーが従来のシステムと比較して異なるスパッタリング効果にアクセスするために、平面ターゲットとメッシュターゲットの両方を選択することができます。さらに、このアセットにはマルチノズルモジュールが含まれており、より高速な蒸着速度とより高い精度を可能にします。ULVAC Entron EXは、さまざまな安全機能を備え、オペレータの安全のためのプロテクターフードを備えています。また、温度、圧力、湿度レベルを監視し、電流測定を行うことで最適なモデル性能を保証します。また、電気アークがスパッタ領域外で検出された場合、自動的にスパッタ蒸着を停止する自動水中アーク抑制機能を備えています。これらのすべての機能により、ULVAC ENTRON-EXはスパッタリングを必要とするアプリケーションにとって信頼性が高く経済的な機器となります。精度と柔軟性により、信頼性と一貫した結果を得ることができ、さまざまなナノ材料や薄膜を製造することができます。
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