中古 ULVAC EI-7K #9364551 を販売中

ULVAC EI-7Kは、高収率、高品質の連続生産スパッタリングを提供するためにプラズマ技術で設計されたスパッタリング装置です。高度な研究開発や量産環境の要求に応えるよう設計されています。ULVAC EI 7 Kは、電磁現象のアーク放電現象を利用して、対象物質と使用されるスパッタリングガスからなる粒子/イオン化ガスを生成します。このイオン化されたプラズマは、真空チャンバーに囲まれた基板サンプルに向けられます。EI-7Kには、標準的なDCスパッタリングから高周波パルススパッタリング技術まで、幅広いパワーオプションがあります。DC電源オプションは、マイクロアンペアレベルからミリアンペアレベルまでの範囲です。パルス電源オプションは、最大数十キロワットのピーク電力まで利用可能です。EI 7 Kはまた、フラットターゲットやロータリーターゲットなど、さまざまなターゲット形状とサイズを提供しています。また、基板アタッチメント用の静電チャックを装備しており、温度制御やその他の特殊機能のオプションがあります。ULVAC EI-7Kは、精密な制御と操作の自動化を提供し、スパッタリング速度の正確な制御を可能にします。このシステムは、必要な表面品質を維持しながら、最大250nm/secの高レートでスパッタすることができます。また、ターゲット表面と基板の摩擦を最小限に抑え、汚染を低減し、高品質のフィルムを確保するように設計されています。ULVAC EI 7 Kはスパッタされた材料のための均質性および均質性の高いレベルを提供します。このユニットは、基板の面積全体の堆積率、厚さ、均一性を正確に制御できるように設計されています。また、コーティング基板を評価し、プロセス中に破損した可能性のあるサンプルを検出するためのさまざまな検出システムを備えています。EI-7Kは研究開発および大量生産の環境の両方のために適している信頼でき、多目的なスパッタリング機械です。精密制御機能、高いスパッタリング速度、カスタマイズ可能な機能を備えたEI 7 Kは、最高レベルのパフォーマンスを必要とするあらゆるタスクに適しています。