中古 ULVAC CERAUS ZI 1000 #9378914 を販売中
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ID: 9378914
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1998
Sputtering system, 8"
CIM: SEMI Auto to CTC
Sputter Zi (LTS with sputter etcher)
PF
(6) Chambers
Transfer, LLA And LLB Chamber
P1 - ICP Etcher
P2 - Degas
P3 - ICP Etcher
P4 - LTS (Ti/TiN)
P5 - LTS (Ti/TiN)
P6 - LTS (Ti/TiN)
Loadlocks:
LLA VCE4, (30) Metal stocker slots
LLB VCE4, (30) Metal stocker slots
Hardware configuration:
Chamber 1: ICP
Chamber 2: Degas
Chamber 3: ICP
Chamber 4: LTS
Chamber 5: LTS
Chamber 6: LTS
In-aligner
In-cooler
Mainframe: BROOKS M800
Wafer mapping: Standard
Transfer MAG 7.1 Robot
Transfer armset MAG 6
3-Axis Bi-symmetric dual frogleg
ULVAC C30ZR Helium compressor
RISSHI CS-1700H Chiller
Handler System
Cables
Metal cover
Power supply rack
Computer with rack
Pump
Front panel
Raise platform & accessories
Process:
Chamber 1: Etch
Chamber 2: Degas
Chamber 3: Etch
Chamber 4: Ti/TiN dep
Chamber 5: Ti/TiN dep
Chamber 6: Ti/TiN dep
Wafer notch alignment
Cooler
Generators:
Chamber 1: DC 1, DC 2, ULVAC RFS05C, RF, AC Bias
Chamber 2: DC 1, DC 2, RF, AC Bias
Chamber 3: DC 1, DC 2, RF ULVAC RFS05C, AC Bias
Chamber 4: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 5: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Chamber 6: DC 1 KYOSAN, DC 2, RF, AC Bias, HPK15Zi
Turbo pumps:
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 303LM
SHIMADZU 403LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
SHIMADZU 1003LM
1998 vintage.
ULVAC CERAUS ZI 1000は、真空コーティング装置の大手ハイテクメーカーであるULVAC (Ultra-Low Vacuum Appliatus Corporation)製スパッタ装置です。このシステムは、セラミックターゲットとArやHeなどのイオン化された不活性ガスを使用して、目的の材料の層で幅広い材料をコーティングします。ターゲットは真空チャンバーに配置され、イオンは強力な変調電圧源によってターゲットに向かって加速されます。加速されたイオンとターゲットとの衝突は、ナノサイズの粒子の雰囲気を作り出し、コーティング材料が観測された基板に正確に付着することを可能にします。ULVAC CERAUS ZI-1000は、他のスパッタリングシステムとは一線を画すユニークな性能を備えています。高度な温度制御ユニットにより、長時間の動作でも正確な温度制御と安定した動作が可能です。これは、コーティングがプロセス全体で一貫していることを確認するのに役立ちます。また、起動時間を短縮し、効率を向上させるプレイグニッションマシンを備えています。このツールは、基材全体にわたって高い均一性と優れた粒子密度で、コーティング材料の均一な堆積を提供するように設計されています。CERAUS ZI 1000は、低圧蒸着を可能にする真空アセットを内蔵しています。このモデルは最大真空が1 x 10-3 Torrであるため、コーティング材はより効率的な直線で基板に向かって移動することができ、コーティングの厚さを制御することができます。また、水および安全インターロックを備え、安全性を確保するためにレーザー障害物を備えています。CERAUS ZI-1000は、あらゆる種類の反応スパッタリングおよび熱蒸発アプリケーションで優れた結果を提供することができます。高分子から高感度な半導体まで、多種多様な基板に精密コーティングを施すのに最適です。信頼できる製造と優れた性能で知られており、幅広い産業用途に最適です。
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