中古 ULVAC Ceraus Z-1000 #9198269 を販売中

ULVAC Ceraus Z-1000
ID: 9198269
ウェーハサイズ: 6"
Sputtering system, 6" BM.
ULVAC Ceraus Z-1000は、最先端のスパッタリング装置です。スパッタリングシステムは、チャンバー、スパッタソース、真空ユニット、ガス供給機、および処理制御ユニットで構成されています。このツールは、望ましい材料の薄膜を基板に堆積させるように設計されています。スパッタチャンバーは、中央フランジプレートを備えた円筒チャンバーです。チャンバーはステンレス製で、10 torrまでの耐圧性があります。直径12インチのビューウィンドウとフランジ接続用の2つの4インチポートを備えています。チャンバーには自動ドアアセットが装備されており、簡単にアクセスでき、基板の迅速な積み下ろしが可能です。スパッタ源は、EDガンポートとMoガンポートを備えたダイオード式スパッタ砲です。アルゴンガスから生成される高密度プラズマを生成し、基板表面をスパッタするために使用されます。スパッタガンは電源に接続されており、可変的な電源制御を提供するように設計されています。スパッタリングプロセスは、処理制御ユニットを介しても制御されます。真空モデルは、ロータリーポンプ、ターボ分子ポンプ、およびコンビネーションバッフルアンドトラップアセンブリで構成されています。ポンプは、チャンバー内にきれいで乾燥した真空環境を提供するように設計されています。混合バッフルとトラップアセンブリは、スパッタリングプロセス中に生成される可能性のある汚染物質と破片を除去するために使用されます。ガス供給装置は、スパッタリングプロセス中にチャンバーにアルゴンガスを導入するように設計されています。スパッタガンと真空システムの両方に接続されています。ガスフィードユニットには、チャンバー内の圧力を監視するために使用される高度な圧力センサーが装備されています。これにより、スパッタリングプロセスに最適な圧力が維持されます。処理制御ユニットは、スパッタリングプロセスに関与するすべてのプロセスを監視および制御するために使用されます。温度や圧力コントローラなどの高度な安全機能を備えています。また、チャンバー内の圧力や温度など、プロセスに関するさまざまな情報を表示する機能もあります。Ceraus Z-1000は、基板上に薄膜を堆積させるために使用される高度なスパッタリングマシンです。プロセスパラメータを正確に制御する信頼性の高い汎用性の高いツールであり、さまざまなスパッタリングアプリケーションに適しています。
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