中古 ULVAC Ceraus Z-1000 #9053697 を販売中

ULVAC Ceraus Z-1000は、薄膜蒸着プロセス用に設計されたスパッタリング装置です。研究および生産環境で通常使用されるシステムは、金属やその他の材料の薄膜を基板に堆積させるために、マグネトロンスパッタリング技術を使用しています。この技術は、10nmから1000nmまでのコーティングの厚さで、アルミニウム、モリブデン、タンタル、チタン、クロム、コバルト、プラチナ、イリジウム、タングステンの薄い層を作成するのに理想的です。Ceraus Z-1000ユニットには、寛大な作業スペースを提供するスパッタリングチャンバーと、高いレベルの汚染制御を提供するベルジャーシール可能なマシンが装備されています。基板積載が容易なオープンチャンバー設計と、プロセス温度安定性を確保するクローズループ冷却水工具を採用しています。また、圧力を確実に監視および調整するために、厳格に設計された内部ガス制御資産を備えています。このモデルは、スパッタリングチャンバーに取り付けられた2つの陰極を使用しており、それぞれに多数のマグネトロンコイルがあります。陰極はRFおよびDC電源に接続されており、チャンバー内の正負イオンを独立して制御できます。これにより、異なるスパッタ材料の選択的な堆積と、2層から5層の膜を形成する材料の組み合わせが可能になります。装置はまたタンデムおよび多層構造を作成できます。真空側では、メインポンピングユニット、ターボ分子ポンプ、保持プレートパイプ、フォアポンプオプションを使用して、システムは1x10-4〜1x10-6Paの範囲で動作します。外側では、高度なオートメーションインターフェイスは、遠くから簡単に制御、監視、操作を提供します。このマシンはまた、好ましいコーティング厚さ、ドウェル時間、ポンプ速度、ポンプ時間、浮動電圧などのプロセスパラメータのデータおよびソフトウェア制御を提供します。ULVAC Ceraus Z-1000は、チャンバー設計を一体化した中真空スパッタツールです。高い蒸着速度、精密なプロセス制御、高品質の薄膜蒸着を特徴としています。フィルム組成、フィルム性能、基板サイズなどの要件が厳しく、高精度な薄膜の研究・製造に最適です。